臺灣手機納米鍍膜設備的行業須知

手機納米鍍膜設備

工藝特點

（1）廣泛應用于金屬涂層、陶瓷涂層、無機涂層材料等。

（2）在產量方面，從單件到大批量皆可。

（3）有質量優勢，沉積溫度低，薄膜成份易控，膜厚與淀積時間成正比，均勻性，重復性好，臺階覆蓋性優良。

（4）工具涂層的生產效率不如PVD，具體取決于特定技術要求和輔助工藝。

化學氣相沉積曾是真空技術廣泛用于陶瓷沉積的種技術，特別是對工具涂層更是這樣。

鍍膜機工藝在太陽能運用方面的運用當需求有用地運用太陽熱能時，就要思考選用對太陽光線吸收較多、而對熱輻射等所導致的損耗較小的吸收面。太陽光譜的峰值大約在波長為2-20μm之間的紅外波段。

4、適用材料

化學氣相沉積曾是真空技術廣泛用于陶瓷沉積的一種技術，特別是對工具涂層更是這樣。

20世界80年代早期隨著等離子體輔助PVD工藝的顯露，CVD在工具方面的應用衰落了。但由于這種工藝具有非常好的滲入特性，其在CVI、ALE等領域的工藝中有著很好的應用前景，主要用于金屬涂層、陶瓷涂層、無機涂層材料。

金屬箔(尤其是銅箔)上的化學氣相沉積(CVD)是目前制備大面積高質量石墨烯薄膜具發展前景的方法生長在銅箔上的石墨烯薄膜中為什么會出現“adlayers”，發現薄膜中的碳雜質直接導致adlayers的成核和生長。通過使用飛行時間二次離子質譜和燃燒分析，發現商業銅箔有‘過量的碳’，尤其是在表面附近，深度約為300納米。

PVD是一種出色的真空鍍膜工藝，可改善耐磨性和耐腐蝕性。它對于功能性應用非常需要，例如工具，裝飾件，光學增強，模具，模具和刀片。這些只是各種各樣已經建立好的應用程序的幾個例子。

此技術中使用的設備維護成本低，并且對環境無害。PVD涂層的好處很多。如PVD可以提供真正獨特的優勢，從而增加產品的耐用性和價值。沉積技術在機加工過程中具有重要作用。

機加工工具可能是緊急的應用之一，需要一些特性，例如高溫下的硬度，高耐磨性，化學穩定性，韌性和剛度。此外，PVD還能夠生產具有優異附著力，均勻層，設計結構，漸變特性，可控形態，材料和特性的高度多樣性的涂層。