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發(fā)布時(shí)間：2021-08-29 17:09
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東研研磨機(jī)的配件耗材介紹
東研研磨機(jī)的配件耗材介紹 研磨機(jī)是研磨加工行業(yè)的核心設(shè)備，承擔(dān)著研磨行業(yè)整個(gè)加工效率。我們知道任何一個(gè)款機(jī)械設(shè)備都需要很多大小不一的配件來幫助完成運(yùn)行，而研磨機(jī)的主要研磨耗材有研磨液、研磨盤、拋光皮、拋光布、拋光液等。 像東研的研磨液系列有很多款，鉆石研磨液312、320、330、340，研磨液的使用可以幫助研磨機(jī)提高研磨效率。東研的拋光皮常見的有粗磨皮、進(jìn)口拋光皮，是研磨拋光工藝中非常普遍的耗材。前面有提到研磨液，那么相對的就有拋光液，東研的拋光液主要有銅/陶瓷拋光液、不銹鋼/鋁材拋光液、銀拋光液、鏡面拋光液以及鉆石拋光液。
切割、研磨、拋光容易忽視的操作環(huán)節(jié)要注意了
切割、研磨、拋光容易忽視的操作環(huán)節(jié)要注意了 研磨拋光，切割前應(yīng)對其定向，確定切割面，切割時(shí)首先將鋸片固定好，被切晶體材料固定好，切割速度選擇好，切割時(shí)不能不用切割液，它不僅能沖洗鋸片，而且還能減少由于切割發(fā)熱對晶體表面產(chǎn)生的損害，切割液還能沖刷切割區(qū)的晶體碎渣。 切割下來的晶片，要進(jìn)入下一道工序研磨。首先要用測厚儀分類測量晶片的厚度進(jìn)行分組，將厚度相近的晶片對稱粘在載料塊上。粘接前，要對晶片的周邊進(jìn)行倒角處理。粘片時(shí)載料塊溫度不易太高，只要固定臘溶化即可，晶片擺放在載料塊的外圈，粘片要對稱，而且要把晶片下面的空氣排凈（用鐵塊壓實(shí)）。防止產(chǎn)生載料塊不轉(zhuǎn)和氣泡引發(fā)的碎片的現(xiàn)象。在研磨過程中適時(shí)測量減薄的厚度，直到工藝要求的公差尺寸為止。 使用研磨拋光機(jī)前要將設(shè)備清洗干凈，同時(shí)為保證磨盤的平整度，每次使用前都要進(jìn)行研盤，研盤時(shí)將修整環(huán)和磨盤自磨，選用研磨液要與研磨晶片的研磨液相同的磨料進(jìn)行，每次修盤時(shí)間10分鐘左右即可。只有這樣才能保證在研磨時(shí)晶片表面不受損傷，達(dá)到理想的研磨效果。 拋光前要檢查拋光布是否干凈，拋光布是否粘的平整，一定要干凈平整。進(jìn)行拋光時(shí)，拋光液的流量不能小，要使拋光液在拋光布上充分飽和，一般拋光時(shí)間在一小時(shí)以上，期間不停機(jī)，因?yàn)橥C(jī)，化學(xué)反應(yīng)仍在進(jìn)行，而機(jī)械摩擦停止，造成腐蝕速率大于機(jī)械摩擦速率，而使晶片表面出現(xiàn)小坑點(diǎn)。 設(shè)備的清洗非常重要，清洗是否干凈將直接影響磨、拋晶片的質(zhì)量。每次研磨或拋光后，都要認(rèn)真將設(shè)備里外清洗干凈。
淺說平面研磨機(jī)工作時(shí)間和速度的聯(lián)系
淺說平面研磨機(jī)工作時(shí)間和速度的聯(lián)系 平面研磨機(jī)工作的時(shí)間和速度這兩個(gè)研磨要素是密切相關(guān)的，與加工過程中工件所走過的路程成正比，研磨時(shí)間過長，不僅加工精度趨向穩(wěn)定不再提高，甚至?xí)蜻^熱變形喪失精度，并使研磨效率降低。實(shí)踐表明，在研磨的初始階段，工件幾何形狀誤差的消除和表面光潔度的改善較快，而后則逐步緩慢下來。 通過平面研磨機(jī)工作原理的分析可知;研磨開始階段因有工件的原始粗鍵度及幾何形狀誤差，工件與研具接觸面積較小，使磨粒壓下較深。隨著研磨時(shí)間增加，磨粒壓下漸淺，通過工件橫截表面的磨粒增多，幾何形狀誤差很快變小而表面光潔度構(gòu)改善也較快。當(dāng)基本消除幾何形狀誤差之后，工件與研具上的磨粒接觸較多，此時(shí)磨粒壓下深度較淺，各點(diǎn)切削厚度趨于均勻。研磨時(shí)間再長些，則通過工件橫截面磨粒數(shù)量增多，對工件精度的改善則變得緩慢了。超過一定的研磨時(shí)間之后，磨粒鈍化得更細(xì)，壓下更淺，切削能力也更低了，并逐漸趨向穩(wěn)定。 對粗研磨來說，為獲得較高的研磨效率，平面研磨機(jī)研磨時(shí)問主要應(yīng)根據(jù)磨粒的切削快慢來確定。對精研磨來說，實(shí)驗(yàn)曲線表明，研磨時(shí)問在1~3分鐘范周，對研磨效果的改變已變緩，超過3分鐘，對研磨效果的提高沒有顯著變化。
