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發(fā)布時(shí)間:2021-04-04 06:25  
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小型自動(dòng)磁控濺射儀
沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專業(yè)磁控濺射產(chǎn)品供應(yīng)商,我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?
1. 濺射室極限真空度:≤6.6×10-6 Pa
2. 系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0×10-7Pa.l/S
3. 系統(tǒng)從大氣開始抽氣:濺射室30分鐘可達(dá)到6.6×10-4 Pa;
4. 系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度:≤5Pa
5. 濺射真空室1套,立式上開蓋結(jié)構(gòu),尺寸不小于Ф300mm×300mm,全不銹鋼結(jié)構(gòu),弧焊接,表面進(jìn)行電化學(xué)拋光,內(nèi)含防污內(nèi)襯,可內(nèi)烘烤到100~150℃,接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封,腔體內(nèi)有照明系統(tǒng)
6. 磁控濺射系統(tǒng) 3套, 提供3塊測試靶材。鍍膜不均勻度≤5%
7. 旋轉(zhuǎn)基片臺(tái) 1套,樣品臺(tái)可放置不小于100mm樣品1片,具有連續(xù)旋轉(zhuǎn)功能,旋轉(zhuǎn)0—30轉(zhuǎn)/分連續(xù)可調(diào)。基片加熱溫度:室溫—500°C連續(xù)可調(diào),由熱電偶閉環(huán)反饋控制,加熱電源配備控溫表,控溫方式為PID自動(dòng)控溫及數(shù)字顯示
8. 觀察窗口及法蘭接口部件 1套
9. 工作氣路1套,包含:100SCCM、20SCCM質(zhì)量流量控制器、CF16截止閥、管路、接頭等共2路; DN16充氣閥、管路、接頭等2路;
10. 抽氣機(jī)組及閥門、管道 1套,包含1臺(tái)進(jìn)口復(fù)合分子泵及變頻控制電源(680L/s ,德國普發(fā)Hipace700分子泵);具有一體化、占用空間小、靈活的特點(diǎn),無需380V工業(yè)電,無需額外冷水機(jī),采用無油干泵分子泵組,無需操心真空系統(tǒng)和操作間環(huán)境泵油污染。1臺(tái)機(jī)械泵(4L/S) ,1臺(tái)DN40氣動(dòng)截止閥,機(jī)械泵與真空室之間的旁抽管路1套,CC150氣動(dòng)閘板閥1臺(tái)(用于復(fù)合分子泵與真空室隔離),節(jié)流閥1臺(tái),DN40旁抽氣閥1臺(tái),壓差式充氣閥1臺(tái);管道采用不銹鋼三通及波紋管,
11. 安裝機(jī)臺(tái)架組件 1套,由方鋼型材焊接成,快卸圍板表面噴塑處理,機(jī)臺(tái)表面用不銹鋼蒙皮裝飾,四只腳輪,可固定,可移動(dòng)。
雙靶磁控濺射鍍膜機(jī)的特點(diǎn)有哪些?
沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)生產(chǎn)、銷售磁控濺射產(chǎn)品,以下信息由沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供。
產(chǎn)品特點(diǎn)
1:此款鍍膜儀配置有兩個(gè)靶槍:一個(gè)靶槍配套的是射頻電源,用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜;一個(gè)靶槍配套的是直流電源,用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜
2:該鍍膜儀可以制備多種不同材料的薄膜,應(yīng)用非常廣泛。
3:該鍍膜儀體積較小,且配備有觸摸屏控制面板,操作方便。
磁控濺射鍍膜設(shè)備的主要用途
1.各種功能性的薄膜鍍膜。所鍍的膜一般能夠吸收、透射、反射、折射、偏光等效果。
2.時(shí)裝裝飾領(lǐng)域的應(yīng)用,比如說各種全反射鍍膜以及半透明鍍膜,可適用在手機(jī)外殼、鼠標(biāo)等產(chǎn)品上。
3.微電子行業(yè)領(lǐng)域中,其是一種非熱式鍍膜技術(shù),主要應(yīng)用在化學(xué)氣象沉積上。
4.在光學(xué)領(lǐng)域中用途巨大,比如說光學(xué)薄膜(如增透膜)、低輻射玻 璃和透明導(dǎo)電玻璃等方面得到應(yīng)用。
5.在機(jī)械行業(yè)加工中,其表面功能膜、超硬膜等等。其作用能夠提供物品表面硬度從而提高化學(xué)穩(wěn)定性能,能夠延長物品使用周期。
自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)有哪些特點(diǎn)?
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自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)產(chǎn)品特點(diǎn):
不銹鋼腔體
晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
帶觀察視窗的腔門易于上下的載片
基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)控制
帶密碼保護(hù)功能的多級(jí)訪問控制
完全的安全聯(lián)鎖功能
預(yù)真空鎖以及自動(dòng)晶圓片上/下的載片
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