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發(fā)布時(shí)間：2021-09-02 07:42
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我國使用的0
我國使用的0.1微米十級(jí)潔凈室主要依賴從國外進(jìn)口。由于高潔凈級(jí)別的潔凈室造價(jià)十分昂貴，0.1微米十級(jí)潔凈室每平方米造價(jià)高達(dá)1萬美元以上。在大規(guī)模集成電路制造裝備的投資中潔凈廠房占有相當(dāng)高的比例，這與集成電路工藝不斷更新，產(chǎn)品更新?lián)Q代周期越來越快的發(fā)展趨勢(shì)不相適應(yīng)，嚴(yán)重制約了大規(guī)模集成電路技術(shù)的發(fā)展。美國ASYST公司、德國MW公司發(fā)展的使用隔離技術(shù)的亞微米生產(chǎn)微環(huán)境系統(tǒng)設(shè)備和技術(shù)在近幾年中得到廣泛采用。該項(xiàng)的潔凈技術(shù)在100級(jí)潔凈度的潔凈廠房中，采用工藝設(shè)備局部使用隔離技術(shù)的微環(huán)境，把投資比例壓縮到別的微環(huán)境，消除了操作者與工藝設(shè)備運(yùn)行的二次污染源產(chǎn)生對(duì)集成電路成品率和可靠性的影響作用。
競(jìng)爭(zhēng)方向轉(zhuǎn)變由價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)轉(zhuǎn)變?yōu)閮r(jià)值競(jìng)爭(zhēng)
競(jìng)爭(zhēng)方向轉(zhuǎn)變 由價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)轉(zhuǎn)變?yōu)閮r(jià)值競(jìng)爭(zhēng)。隨著電子產(chǎn)品的集成化、密化、微型化、功能化等趨勢(shì)，對(duì)元器件的可靠性要求越來越高，電子信息制造業(yè)對(duì)潔凈室的要求標(biāo)準(zhǔn)也更加嚴(yán)格。微量的臟污或微弱的靜電都有可能造成元器件產(chǎn)品良品率的大幅降低，直接影響公司的效益。目前硬盤磁頭的靜電壓閾值已經(jīng)下降到3 V以內(nèi)，部分IC的封裝環(huán)境要求達(dá)到Class10，甚至Class1的水平。電子信息行業(yè)的技術(shù)發(fā)展和要求促使?jié)崈艄こ绦袠I(yè)企業(yè)由價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)轉(zhuǎn)向技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)，只有具備技術(shù)研發(fā)、自主能力的企業(yè)才能滿足客戶需求而持續(xù)發(fā)展，才能設(shè)計(jì)和建造符合要求的的潔凈室，相關(guān)技術(shù)和服務(wù)能力的提升將成為未來市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的焦點(diǎn)。
光學(xué)微電子凈化工程凈化參數(shù)
學(xué)微電子凈化工程一般包括：
1、 潔凈生產(chǎn)區(qū)
2、 潔凈輔助間（包括人員凈化用房、物料凈化用室和部分生活用室等）
3、 管理區(qū)（包括辦公、值班、管理和休息等）
4、 設(shè)備區(qū)（包括凈化空調(diào)系統(tǒng)應(yīng)用、電氣用房、高純水和高純氣用房、冷熱設(shè)備用房）
光學(xué)微電子凈化工程凈化原理
氣流→初效凈化→空調(diào)→中效凈化→風(fēng)機(jī)送風(fēng)→管道→凈化風(fēng)口→吹入房間→帶走塵埃細(xì)菌等顆粒 → 回風(fēng)百葉窗→初效凈化 重復(fù)以上過程，即可達(dá)到凈化目的。
換氣次數(shù)：100000級(jí)≥15次；10000級(jí)≥20次；1000≥30次。壓差：主車間對(duì)相鄰房間≥5Pa
平均風(fēng)速：10級(jí)、100級(jí)0.3－0.5m/s；溫度 冬季>16℃；夏季 <26℃；波動(dòng)±2℃。
溫度45－65%；GMP車間濕度在50%左右為宜；電子車間濕度略高以免產(chǎn)生靜電。
噪聲≤65dB（A）；新風(fēng)補(bǔ)充量是總送風(fēng)量的10%－30%；照度300LX。
