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真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空濺射鍍膜根據濺射現象以上，濺射是用荷能離子轟擊固態表面，造成固態表面原子逸出的狀況。濺射是出射粒子將動能傳送給固態表面，固態表面原子因消化吸收動能而揮發出去的全過程。

真空鍍膜設備涂層刀具的后處理工藝開始受到人們的廣泛關注。

1、使用真空鍍膜機涂層刀具，零件已加工表面質量較好。

2、真空鍍膜機涂層材料與被加工材料之間的摩擦系數較小，所以真空鍍膜機涂層刀具的切削力小于未涂層刀具。

3、涂層刀具綜合性能良好，涂層硬質合金刀片有較好的通用性，一種涂層硬質的刀片具有較寬的使用范圍。

4、真空鍍膜機表面涂層材料具有很高的耐磨性和硬度，且耐高溫。和未涂層的刀具比，涂層刀具允許采用較高的切削速度，提高了切削加工效率，也提高了在相同的切削速度下刀具的壽命。

鍍膜設備種類復雜，只需要按照大的工藝分常有的，比如蒸發、磁控濺射、離子等PVD鍍膜技術，按沒個鍍膜加工企業要求不同又需要配置不同的設備和程序。

真空鍍膜設備的多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統表面處理的缺陷，而且各項技術指標優于傳統工藝，廣泛應用于五金加工、機械設備、化工、模具制造、電子產品、儀器等領域。