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發布時間:2021-10-22 04:08  
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光刻膠市場空間與半導體的分不開。2012-2018年全球半導體市場規模復合增速8.23%,在全球半導體行業的快速發展下,全球半導體光刻膠市場持續增長。
而國內市場,因全球半導體、液晶面板以及消費電子等產業向國內轉移,對光刻膠需求量迅速增量。
但是遠遠不夠,從全球光刻膠的市場競爭格局來看,光刻膠市場主要由日韓企業主導,國內企業市場份額集中在低端的PCB光刻膠上,高技術壁壘的LCD 和半導體光刻膠主要依賴進口。根據某些數據顯示,國內光刻膠產值當中,PCB光刻膠的占比高達95%,半導體光刻膠和LCD光刻膠產值占比都僅有2%。
由上分析可知,我國目前在光刻膠領域急需技術突破的。
光刻膠定義
光刻膠是一大類具有光敏化學作用(或對電子能量敏感)的高分子聚合物材料,是轉移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的英文名為resist,又翻譯為抗蝕劑、光阻等。因為光刻膠的作用就是作為抗刻蝕層保護襯底表面。光刻膠只是一種形象的說法,因為光刻膠從外觀上呈現為膠狀液體。
光刻膠通常是以薄膜形式均勻覆蓋于基材表面。當紫外光或電子束的照射時,光刻膠材料本身的特性會發生改變,經過顯影液顯影后,曝光的負性光刻膠或未曝光的正性光刻膠將會留在襯底表面,這樣就將設計的微納結構轉移到了光刻膠上,而后續的刻蝕、沉積等工藝,就可進一步將此圖案轉移到光刻膠下面的襯底上,然后再使用除膠劑將光刻膠除去就可以了。
期望大家在選購光刻膠時多一份細心,少一份浮躁,不要錯過細節疑問。想要了解更多光刻膠的相關資訊,歡迎撥打圖片上的熱線電話!!!
光刻膠的作用有什么?
光刻是將圖形由掩膜版上轉移到硅片上,為后續的刻蝕步驟作準備。在光刻過程中,需在硅片上涂一層光刻膠,經紫外線曝光后,光刻膠的化學性質發生變化,在通過顯影后,被曝光的光刻膠將被去除,從而實現將電路圖形由掩膜版轉移到光刻膠上。再經過刻蝕過程,實現電路圖形由光刻膠轉移到硅片上。在刻蝕過程中,光刻膠起防腐蝕的保護作用。
光刻膠介紹
以下內容由賽米萊德為您提供,今天我們來分享光刻膠的相關內容,希望對同行業的朋友有所幫助!
光刻膠是電子領域微細圖形加工關鍵材料之一,是由感光樹脂、增感劑和溶劑等主要成分組成的對光敏感的混合液體。在紫外光、深紫外光、電子束、離子束等光照或輻射下,其溶解度發生變化,經適當溶劑處理,溶去可溶性部分,然后得到所需圖像。 光刻膠作為技術門檻極高的電子化學品一直被國際企業壟斷。 隨著大力研發和投入, 國內企業已逐步從低端 PCB 光刻膠發展至中端半導體光刻膠的量產。