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發布時間：2020-10-17 15:16
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反滲透設備常用工藝和適用范圍
反滲透設備就是根據和滲透現象相反的原理而制成，實質就是給溶液一個比滲透壓要大的壓力，使溶液中的水透過半透膜分離出來的過程。它可以去除水中有害物質，如細菌等。
反滲透設備常用工藝
工藝一：石英砂 活性炭 軟化 保安過濾器 反滲透設備主機
工藝二：石英砂 活性炭 阻垢系統 保安過濾器 反滲透設備主機
工藝三：絮凝沉降 石英砂 活性炭 阻垢系統 保安過濾器 反滲透設備主機
工藝四：石英砂 活性炭 軟化 保安過濾器 反滲透裝置 臭氧滅菌/紫外線殺菌
工藝五：石英砂 活性炭 軟化 保安過濾器 一級反滲透 二級反滲透 臭氧滅菌/紫外線殺菌
工藝六：陶瓷膜過濾器 軟化 保安過濾器 反滲透裝置 臭氧滅菌/紫外線殺菌
反滲透設備運行時應該怎么操作?
采用低壓低流量的手法將管道中的空氣趕走，只有管道中的空氣不存在設備才能正常的運行。首先壓力要保持在 0.2~0.4MP 之間。使用低壓沖洗和排氣時，要將產生的濃水和產水排放到下水道中。
如果在運行時壓力上升較快的時候，這是膜元件中存有空氣，將會產生水流與徑向的沖擊力。這樣的情況下可能就會使膜的外，造成反滲透膜不可修復的情況。
使用時，一定要將膜運行的壓力調節至 0.2~0.4MP 進行沖洗，要保證反滲透系統每次啟動時都會自動低壓沖洗反滲透膜功能。
反滲透設備化學清洗法的步驟和注意事項
化學清洗的標準
發生以下情況時，物理沖洗已經不能使反滲透膜的性能恢復，這時就需要進行化學清洗。
① 標準化條件下的產水量下降10 – 15 %;
② 進水和濃水之間的系統壓差升高到初始值的1.5倍;
③ 產水水質下降10-15%。
化學清洗的頻率
當膜元件發生了輕度污染時，就應及時清洗膜元件。重度污染會因化學劑不易深入滲透至污染層，且污染物也不易被沖出膜外等因素而影響清洗效果。如果膜元件的性能降低至正常值的30-50%，很難清洗恢復到膜系統初始性能。
膜的清洗周期根據現場實際污染情況而定。正常的清洗周期是每3-12個月一次。如果在1個月內清洗一次以上，需要改善預處理例如追加投資或重新設計膜系統;如果清洗反滲透純水設備周期在1-3個月一次，應側重于調整和優化現有系統的運行參數。反滲透膜污染的原因主要包括物理污染、化學污染、有機物污染三大類。即使系統長期沒有發生污染，為了能夠更好的保證系統正常運行，一般可考慮每6個月進行1次化學清洗。
當預處理工藝中采用了無機絮凝劑，經常會有反應不完全的無機鹽沒有形成可過濾掉的絮凝體。用戶應確保沒有過量的絮凝劑進入到膜系統中。過量的絮凝劑能通過SDI測試裝置測定出來，例如SDI膜片上的鐵為3μg/片，任何時候不應超過5μg/片。
除了采用濁度和SDI測定之外，顆粒計數器也可以衡量RO/NF進水是否合格。粒徑大于2μm的顆粒物應<100個/ml。
清洗劑的選擇
不同污染物應采用不同的清洗劑。污染發生時通常不是只有一種污染物，因此常規化學清洗需要包括高pH值清洗和低pH值清洗兩大步驟。可以使用的常規化學清洗劑請參見表4。選用哪個清洗劑進行化學清洗，可以按以下方法判斷：
