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發布時間:2021-01-04 23:18  
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很多對于氫氣的概念就是爆l炸,很輕等等,然而并不是所有的氫氣都這樣,高純氫氣只會燃燒,并不會爆l炸,讓我們一起了解吧!
據了解,氫氣為氣體,與空氣混合能形成爆l炸性混合物,遇點火源能引起燃燒爆l炸。氫氣比空氣輕,在室內使用和儲存時,漏氣上升滯留屋頂不易排出,遇火星會引起爆l炸。
對氫氣瓶的存放、使用,國家也有明確規定:氫氣瓶與盛有、、可燃物質及氧化性氣體的容器和氣瓶的間距不應小于8米;除去氣體中的雜質常用的凈化方法有塵埃濾除法、水氣干燥法、選擇吸附法、催化反應法、吸收法、金屬吸氣法和純化裝置提純法等。與明火或普通電氣設備的間距不應小于10米;與其他可燃性氣體貯存地點的間距不應小于20米;應設有固定氣瓶的支架;多層建筑內使用氣瓶,除生產特殊需要外,一般宜布置在頂層靠外墻處;必須使用專用的減壓器;開啟時,操作者應站在閥口的側后方,動作要輕緩。
三氟化氮在常溫下是一種無色、無臭、性質穩定的氣體,是一種強氧化劑。國防工業液氧是現代火箭最l好的助燃劑,在超音速飛機中也需要液氧作氧化劑,可燃物質浸漬液氧后具有強烈的爆l炸性,可制作液氧炸l藥。三氟化氮在微電子工業中作為一種優良的等離子蝕刻氣體,在離子蝕刻時裂解為活性氟離子,這些氟離子對硅和鎢化合物,高純三氟化氮具有優異的蝕刻速率和選擇性(對氧化硅和硅),它在蝕刻時,在蝕刻物表面不留任何殘留物,是非常良好的清洗劑,同時在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運用。
高純三氟化氮
化學性質穩定,一般條件下在水與堿溶液中均不反應(三校合編無機化學第四版下冊534頁),只有當放電時在水中才發生NF3 2H2O==放電==HNO2 3HF。而且氧化過程中產生的熱量足以維持煉鋼過程所需的溫度,因此,吹氧不但縮短了冶煉時間,同時提高了鋼的質量。F的電負性大于H,因此NF3中的孤對電子云由于向F偏移而導致電子云密度比在NH3中低,配位能力下降,因此質子化時放熱小于NH3。偶極矩與上面類似,大概就是由于電負性的增強導致偶極矩的降低。
禁配物:還原劑、或可燃物。
高純氣體對于不同類別的氣體,純度指標不同,例如對于氮,氫,氬,氦而言,通常指純度等于或高于99.999%的為高純氣體;而對于氧氣,純度為99.99%即可稱高純氧;對于碳氫化合物,純度為99.99%的即可認為是高純氣體。用作陶瓷基板比氧化鋁導熱率高2倍多,電解質的損失僅為氧化鋁的1/10。高純氣體應用領域極寬,在半導體工業,高純氮、氫、氬、氦可作為運載氣和保護氣;高純氣體可作為配制混合氣的底氣。
高純氣體根據分子結構的不同可以分為有機高純氣體,和無機高純氣體。
常見高純氣體的用途
環氧乙烷可用作生產增塑劑、潤滑劑等;
氯是重要的甲基化劑,還可作致冷劑、發泡劑等;
氯乙烷可用作煙霧劑、冷凍劑、抗震劑、局部麻l醉劑;
二可作噴氣推進劑、制冷劑、麻l醉劑;甲硫醇用于合成染料、醫l藥、農l藥;
乙炔可直接用于金屬切割焊接、原子吸收;乙烯基乙炔主要作為氯丁橡膠原料等