您好，歡迎來到易龍商務網(wǎng)！
發(fā)布時間：2020-12-11 13:53
【廣告】
NR77-20000P
正膠PR1-2000A1技術資料
正膠PR1-2000A1是為曝光波長為365 或者436納米，可用于晶圓步進器、掃描投影對準器、近程打印機和接觸式打印機等工具。PR1-2000A1可以滿足對附著能力較高的要求，在使用PR1-2000A1時一般不需要增粘劑，如HMDS。
相對于其他的光刻膠，PR1-2000A1有如下的一些額外的優(yōu)勢：
PEB，不需要后烘的步驟；
較高的分別率；
快速顯影；
較強的線寬控制；
蝕刻后去膠效果好；
在室溫下有效期長達2年。
PR1-1000A1
NR9-3000PY 負性光刻膠
負膠 NR9-3000PY 被設計用于i 線（365 nm）曝光，可使用如步進光刻、掃描投影式光刻、接近式光刻
和接觸式光刻等工具。
顯影之后，NR9-3000PY 展現(xiàn)出一種倒梯形側壁，這可以方便地作單純的LIFT-OFF 處理。
NR9-3000PY 相對于其他光刻膠具有如下優(yōu)勢：
- 優(yōu)異的分辨率性能
- 快速地顯影
- 可以通過調(diào)節(jié)曝光能量很容易地調(diào)節(jié)倒梯形側壁的角度
- 耐受溫度100℃
- 室溫儲存保質(zhì)期長達3 年
Lift-Off工藝
應用領域：LEDs，OLEDs，displays，MEMS，packaging，biochips。
濕法蝕刻，鍍 干法蝕刻（RIE/Ion Milling/Ion implantation）
附著力好Temperature resistance = 100°C 耐高溫Temperature resistance = 180°C
Resist Thickness NR9-3000PY 負性光刻膠
負膠 NR9-3000PY 被設計用于i 線（365
nm）曝光，可使用如步進光刻、掃描投影式光刻、接近式光刻
NR77-25000P,RD8
品牌
產(chǎn)地
型號
厚度
曝光
應用
加工
特性
Futurrex
美國
NR71-1000PY
0.7μm~2.1μm
高溫耐受
用于i線曝光的負膠
LEDOLED、
顯示器、
MEMS、
封裝、
生物芯片等
金屬和介電
質(zhì)上圖案化，
不必使用RIE
加工器件的永
組成
（OLED顯示
器上的間隔
區(qū)）凸點、
互連、空中
連接微通道
顯影時形成光刻膠倒
梯形結構
厚度范圍：
0.5～20.0 μm
i、g和h線曝光波長
對生產(chǎn)效率的影響：
金屬和介電質(zhì)圖案化
時省去干法刻蝕加工
不需要雙層膠技術
NR71-1500PY
1.3μm~3.1μm
NR71-3000PY
2.8μm～6.3μm
NR71-6000PY
5.7μm~12.2μm
NR9-100PY
粘度增強
NR9-1500PY
NR9-3000PY
2.8μm~6.3μm
NR9-6000PY
NR71G-1000PY
負膠對 g、h線波長的靈敏度
NR71G-1500PY
NR71G-3000PY
NR71G-6000PY
NR9G-100PY
0.7μm～2.1μm
NR9G-1500PY
1.3μm～3.1μm
NR9G-3000PY
NR9G-6000PY
耐熱溫度
PR1-500A
0.4μm～0.9μm
?Futurrex
提供先進化學技術的多樣化解決方案
成立于1985年,總部設在美國新澤西州，富蘭克林市,高速成長并超過20年連續(xù)盈利的跨國公司
公司業(yè)務覆蓋范圍包括北美，亞太以及歐洲
基于多樣化的技術
應用領域：微電子、光電子、LED、太陽能光伏、微機電系統(tǒng)、生物芯片、微流體、平面印刷
解決方案：的光刻膠、摻雜涂層、平坦化涂層、旋制氧化硅(spin-onglase)。阻擋層(Barrior Layere)、濕法制程
客戶：從財富100強到以風險投資為背景的設備研發(fā)及制造公司
使命
目標
提供特殊化學品和全新工藝來增加客戶的產(chǎn)能
策略
提供獨特的產(chǎn)品來優(yōu)化生產(chǎn)制程，以提高設備能效
領的技術提升生產(chǎn)過程中的整體性價比
工藝步驟的減少降低了成本和產(chǎn)生瑕疵的可能
增加客戶的產(chǎn)能和生產(chǎn)的效率
工藝減化
非同尋常的顯微構造、金屬及介電層上的圖形轉換、光刻、平坦化、摻雜、蝕刻、邦定
在生產(chǎn)過程中，不含有害溶劑
支持所有客戶的需要，與客戶共創(chuàng)成功
