綿陽金屬標牌腐蝕機技術生產基地「藍光同茂」

現在很多的領域使用蝕刻是比較多的，關于玻璃蝕刻以及金屬蝕刻是有一定的區別的，那么這兩種之間的具體區別是怎樣的呢，腐蝕機廠家給您做下簡單的分析。    玻璃的蝕刻和金屬蝕刻不同，玻璃的蝕刻首先應考慮防蝕層。防蝕層的傳統方法是采用石蠟在鍋內熔化至沸，待冷卻到邊沿結皮后，用刷子趁熱把蠟薄薄的刷到玻璃上，然后再以手工刻畫蠟層，獲得圖文。顯然這種方式已不適應生產的需要。    目前已普通采用抗蝕刻印料，通過絲網印刷悶在玻璃上直接獲得圖文的防蝕層。商品化的耐蝕印料為8200系列玻璃耐蝕油墨。該油墨有較好的抗蝕能力，外觀呈藍色黏稠狀，網印后室溫自干需24h，在75°c下干燥需2h。蝕刻機內放入蝕刻液通過采用1:3的水溶液，也有采用40%的水溶液：98%=9:1的混合液。    有較強的腐蝕性，操作時應特別注意環境的通風與作業的防護。當蝕刻機蝕刻到需求的深度時，以清水沖洗即可獲得清晰透明的蝕刻圖文。




離子植入：其是用來控制半導體中雜質量的關鍵程序，對半導體表面附近區域進行摻雜技術。優點在于雜質量的控制，雜質分布的再重整，及低溫下操作。    離子植入機主要的供廠商為AMAT，中國部份只有中電科電子裝備公司能供應。市場預計今明兩年中國離子植入機需求可達5億美元與7億美元。    沉積：PVD沉積為一種物理制程，此技術一般使用等惰性氣體，藉由在高真空中將離子以加速撞擊濺鍍靶材后，將靶材原子一個個濺擊出來，使被濺擊出來的材質沉積在晶圓表面。    薄膜沉積設備主要的供應商包含應用材料、Vaportech、LamResearch、ASM、Tokki等。而中國相關設備制造廠有北方華創、沈陽拓荊等。北方華創是中國薄膜沉積設備龍頭，目前技術已達到14nm。市場預計今明兩年中國薄膜沉積設備需求可達15億美元與20億美元。    測試：在晶圓完成制造之前，會有一道晶圓中測工序。在測試過程中，會檢測每一個芯片的電路功能。

不銹鋼具有許多優良的性能，如導電性、導熱性、強度、韌性、塑性、耐磨性、可鑄造性等。不銹鋼仍然是重要的結構材料，廣泛應用于生產、生活和科技工作的各個方面。不銹鋼制品在生產和使用過程中，遭受了各種損傷，如機械磨損、生物損傷、腐蝕等。   

 1、不銹鋼蝕刻的定義    不銹鋼蝕刻機是不銹鋼在環境的作用下所引起的破壞或變質。不銹鋼的蝕刻還有其他的表述。所謂環境是指和不銹鋼接觸的物質。例如自然存在的大氣、海水、淡水、土壤等，以及生產生活用的原材料和產品。由千這些物質和不銹鋼發生化學作用或電化學作用引起不銹鋼的蝕刻，在許多功能情況下還同時存在機械力、射線、電流、生物等的作用。不銹鋼發生蝕刻的部分，由單質變成化合物，至使生銹、開裂、穿孔、變脆等。因此，在絕大多數的情況下，不銹鋼蝕刻的過程是冶金的逆過程。

金屬在蝕刻機中的腐蝕過程，首先是在金屬零件表面發生晶粒的溶解作用，其次在晶界上也發生溶解作用，一般來講，晶界是以不同于晶粒的溶解速度發生溶解作用的。

在大多數金屬和合金的多晶體結構中，各個晶體幾乎都能采取原子晶格的任何取向。而晶粒的不同取向、晶粒密度的大小及雜質都會和周圍的母體金屬形成微觀或超微觀原電池。所以，對于金屬在蝕刻液中來講，一方面這些原電池的存在，使金屬表面存在著電位差，電位正的地方得到暫時的保護，電位負的地方在腐蝕機中被優先蝕刻。另一方面在零件表面具有變化著的原子間距，而且原子間距較寬的地方溶解速度迅速，一直到顯示出不平整的表面為止。然后，溶解作用將以幾乎是恒定的速度切削緊密堆積的原子層，表面的幾何形狀也隨著晶粒的溶解而繼續不斷地變化。晶界上的蝕刻也將進一步影響零件表面。在晶界上晶格的畸變和富集的雜質，常常導致更加快速的蝕刻作用，從而可能會使整個晶粒受到凹坑狀的蝕刻。晶粒尺寸越小，蝕刻后表面粗糙度越低，這也可以從實際生產中得到證實。在生產中往往都是材料越均勻致密其表面越平滑。