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真空鍍膜機-操作步驟

一、電控柜的操作;

開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。約需5分鐘。 開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。

觀察渦輪分子泵讀數到達250以后，關予抽，開前機和高閥繼續抽真空，抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能開電子槍電源。

真空鍍膜設備是制作真空條件應用較為廣泛的一種設備。

根據加工產品要求的各異，真空腔大小不同，腔體由不銹鋼材料制作，要求不生銹、堅實等，真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。

蒸發系統主要是指成膜裝置部分，鍍膜機器的成膜裝置很多，有電阻加熱、電子槍蒸發、磁控濺射、射頻濺射、離子鍍等多種方式。

一臺完整的真空鍍膜機是由多部分系統組成的，每個系統可以完成不同的功能。

真空鍍膜設備，主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，分子束外延，激光濺射沉積等很多種。

真空鍍膜設備真空系統技術要求

真空系統能夠通過外接電極進行控制、監測、加熱等磁控濺射鍍膜需要對工件進行烘烤除氣、用離子轟擊進行除氣和清洗以提高薄膜的質量和結合力，除此之外還希望能夠監測工件鍍膜時的溫度，在線控制薄膜厚度。