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              貴州大樣片離子束刻蝕機供應商來電咨詢【創世威納】

              發布時間:2020-12-14 06:21  

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              離子束刻蝕

              離子束刻蝕以離子束為刻蝕手段達到刻蝕目的的技術,其分辨率限制于粒子進入基底以及離子能量耗盡過程的路徑范圍。離子束較小直徑約10nm,離子束刻蝕的結構較小可能不會小于10nm。目前聚焦離子束刻蝕的束斑可達100nm以下,較以較快的直寫速度進行小于50nm的刻蝕,故而聚焦離子束刻蝕是納米加工的一種理想方法。此外聚焦離子束技術的另一優點是在計算機控制下的無掩膜注入,甚至無顯影刻蝕,直接制造各種納米器件結構。但是,在離子束加工過程中,損傷問題比較突出,且離子束加工精度還不容易控制,控制精度也不夠高。

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              離子束刻蝕機

              石英晶體諧振器制作

              石英晶體的諧振頻率與其厚度有關。用機械研磨和拋光致薄的晶體,可制作低頻器件,但頻率超過20MHz時, 上述工藝已不適用因為極薄的晶片已不能承受機械應力。采用離子束拋光,可以不受此限制。石英晶體諧振器的金屬引線要求重量輕、低電阻,通常用鋁沉積在晶體表面溝槽中,以高電導率鋁作引線電極。用離子束濺射加工晶體_上的溝槽是有效的方法。









              加速1器從離子源獲得的離子束的能量一般從幾百電子伏到幾萬電子伏。因為用高引出電壓方式獲得較高能量的離子束受到擊穿的限制,所以必須使離子在電場和磁場中加速,這類裝置叫做加1速器(見粒子加1速器)使用各種加1速器可以使離子獲得很高的能量(如幾百吉電子伏),也可以使離子減速,以獲得能量較低的(如幾十電子伏)但流強很高的離子束。










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