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              發布時間:2021-10-09 20:05  

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              物理氣相沉積技術表示在真空條件下,采用物理方法,將材料源——固體或液體表面氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子,并通過低壓氣體(或等離子體)過程,在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。 物理氣相沉積的主要方法有,真空蒸鍍、濺射鍍膜、電弧等離子體鍍、離子鍍膜,及分子束外延等。發展到目前,物理氣相沉積技術不僅可沉積金屬膜、合金膜、還可以沉積化合物、陶瓷、半導體、聚合物膜等。


              真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果,在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能,供優異的電磁屏蔽和導電效果。

              真空鍍膜的功能是多方面的,這也決定了其應用場合非常豐富。總體來說,真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果,在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能, 供優異的電磁屏蔽和導電效果。





              隨著科技和經濟的提升,各種類型各種鍍膜工藝的真空鍍膜設備在不斷的增加,其功能也越來越好。是指金屬材料在真空條件下,運用化學和物理等特定手段進行有機轉換,使金屬轉換成粒子,沉積或吸附在塑膠材料的表面,形成膜。

              派瑞林涂層加工

              在鍍膜方式上,比較普遍的是采用蒸發鍍或者磁控濺射鍍或者離子鍍。派瑞林涂層加工

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