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顏料超精細(xì)研磨必備設(shè)備

顏料超精細(xì)研磨必備設(shè)備納米砂磨機(jī) 顏料的超細(xì)機(jī)械粉碎法：顏料超細(xì)化一般使用的是超細(xì)粉碎法（也叫超細(xì)研磨法）。這種方法主要是通過對有機(jī)顏料的粒子進(jìn)行超精細(xì)的研磨、剪切，使顏料的粒子均質(zhì)化的分布，要想有機(jī)顏料在水中有良好的穩(wěn)定性，必須要具備三個(gè)條件就是：潤濕、穩(wěn)定以及固液分離。 一、潤濕---顧名思義就是將顏料完全浸潤，去除粒子聚集體中的空氣和雜質(zhì)。 二、分離---是指將抱團(tuán)的物料解聚成均勻較小的粒子后的一個(gè)重要步驟，而非將顏料晶體研磨成更小粒度的粒子。要想分離的效果好，就要提高納米砂磨機(jī)(顏料砂磨機(jī))的剪切力。一般說來，剪切力越高，顏料分離的速度越快，分離效果越好。常用的顏料分離機(jī)械有納米砂磨機(jī)(顏料砂磨機(jī))、球磨機(jī)和高速分散機(jī)等。超細(xì)顏料的穩(wěn)定化是影響整個(gè)粉碎分散過程的關(guān)鍵。 顏料的超精細(xì)研磨必須選擇適當(dāng)?shù)姆稚⒔橘|(zhì)和分離設(shè)備，超細(xì)粉碎法簡單可行，只要具備常規(guī)的研磨分散設(shè)備，如納米砂磨機(jī)（顏料砂磨機(jī)）球磨機(jī)、超微粉碎機(jī)和適當(dāng)?shù)姆稚纯芍频迷谒橘|(zhì)中均勻分散的有機(jī)顏料粒子。我公司生產(chǎn)的納米砂磨機(jī)（顏料砂磨機(jī)）能將顏料超精細(xì)研磨細(xì)度達(dá)到數(shù)十納米。

研磨液在研磨機(jī)所體現(xiàn)的輔助作用

研磨液在研磨機(jī)所體現(xiàn)的輔助作用 研磨液是研磨機(jī)加工過程中使用比例大的研磨耗材，可以幫助研磨設(shè)備提高工件的研磨精度。東研擁有研磨加工中一體化的配套設(shè)施，如研磨機(jī)、研磨液、拋光液、研磨盤等研磨配件耗材種類齊全。接下來一起來談?wù)勓心ヒ涸谘心ゼ庸み^程中所體現(xiàn)的作用有哪些？ 研磨液體現(xiàn)的個(gè)作用是潤滑作用，這是研磨液的基礎(chǔ)功能。研磨液在研磨加工過程中滲入工件與磨粒切削之間形成潤滑膜，防止工件表面粗糙程度的變化。體現(xiàn)的第二個(gè)作用是防銹功能，研磨液結(jié)合防銹劑使用能夠有效的防止研磨工件生銹。其次是研磨液具有冷卻功能，研磨液可以迅速吸收研磨加工中所產(chǎn)生的熱量，降低研磨溫度，達(dá)到工件精度的穩(wěn)定。

單面研磨機(jī)是如何運(yùn)行的

單面研磨機(jī)是如何運(yùn)行的 單面研磨機(jī)規(guī)格及其型號？研磨機(jī)的主要類型有圓盤式研磨機(jī)、轉(zhuǎn)軸式研磨機(jī)和各種研磨機(jī)。如今產(chǎn)品需求與日俱增，所以生產(chǎn)產(chǎn)品的廠家也增加不少，而且產(chǎn)品的規(guī)格和型號也可以進(jìn)行定制。但是在購買產(chǎn)品的時(shí)候在購買的時(shí)候不能因?yàn)閮r(jià)格便宜或者貴來選擇，而是應(yīng)該多家考察，這樣才能選擇對正確的產(chǎn)品。 關(guān)于單面研磨機(jī)的工作原理： 1.單面研磨機(jī)是用涂上或嵌入磨料的研具對工件表面進(jìn)行研磨的磨床。主要用于研磨工件中的高精度平面、內(nèi)外圓柱面、圓錐面、球面、螺紋面和其他型面。 2.將被磨、拋材料放于研磨盤上，研磨盤逆時(shí)鐘轉(zhuǎn)動，修正輪帶動工件自轉(zhuǎn)，重力加壓的方式對工件施壓，工件與研磨盤作相對運(yùn)轉(zhuǎn)磨擦，來達(dá)到研磨拋光目的。 3.單面研磨機(jī)的研磨盤修整機(jī)構(gòu)采用油壓懸浮導(dǎo)軌前后往復(fù)運(yùn)動，金剛石修面刀給研磨盤的研磨面進(jìn)行精密修整，得到理想的平面效果。

切割、研磨、拋光容易忽視的操作環(huán)節(jié)要注意了

切割、研磨、拋光容易忽視的操作環(huán)節(jié)要注意了 研磨拋光，切割前應(yīng)對其定向，確定切割面，切割時(shí)首先將鋸片固定好，被切晶體材料固定好，切割速度選擇好，切割時(shí)不能不用切割液，它不僅能沖洗鋸片，而且還能減少由于切割發(fā)熱對晶體表面產(chǎn)生的損害，切割液還能沖刷切割區(qū)的晶體碎渣。 切割下來的晶片，要進(jìn)入下一道工序研磨。首先要用測厚儀分類測量晶片的厚度進(jìn)行分組，將厚度相近的晶片對稱粘在載料塊上。粘接前，要對晶片的周邊進(jìn)行倒角處理。粘片時(shí)載料塊溫度不易太高，只要固定臘溶化即可，晶片擺放在載料塊的外圈，粘片要對稱，而且要把晶片下面的空氣排凈（用鐵塊壓實(shí)）。防止產(chǎn)生載料塊不轉(zhuǎn)和氣泡引發(fā)的碎片的現(xiàn)象。在研磨過程中適時(shí)測量減薄的厚度，直到工藝要求的公差尺寸為止。 使用研磨拋光機(jī)前要將設(shè)備清洗干凈，同時(shí)為保證磨盤的平整度，每次使用前都要進(jìn)行研盤，研盤時(shí)將修整環(huán)和磨盤自磨，選用研磨液要與研磨晶片的研磨液相同的磨料進(jìn)行，每次修盤時(shí)間10分鐘左右即可。只有這樣才能保證在研磨時(shí)晶片表面不受損傷，達(dá)到理想的研磨效果。 拋光前要檢查拋光布是否干凈，拋光布是否粘的平整，一定要干凈平整。進(jìn)行拋光時(shí)，拋光液的流量不能小，要使拋光液在拋光布上充分飽和，一般拋光時(shí)間在一小時(shí)以上，期間不停機(jī)，因?yàn)橥C(jī)，化學(xué)反應(yīng)仍在進(jìn)行，而機(jī)械摩擦停止，造成腐蝕速率大于機(jī)械摩擦速率，而使晶片表面出現(xiàn)小坑點(diǎn)。 設(shè)備的清洗非常重要，清洗是否干凈將直接影響磨、拋晶片的質(zhì)量。每次研磨或拋光后，都要認(rèn)真將設(shè)備里外清洗干凈。