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              沖壓件加工廠家定制性價(jià)比出眾“本信息長期有效”

              發(fā)布時(shí)間:2020-09-05 11:18  

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                  (1)電解條件的選擇。這里所指的電解,目的是要去除鍍液中的雜質(zhì),但是在電解去除雜質(zhì)的同時(shí),往往也伴隨有溶液中主要金屬離子的放電沉積。為了提高去除雜質(zhì)的速率,減慢溶液中主要金屬離子的沉積速率,就要注意電解處理的操作條件。

                 ①電流密度:電解處理時(shí),以控制多大的電流密度為好,原則上要按照電鍍時(shí)雜質(zhì)起不良影響的電流密度范圍。也就是說,在電鍍過程中,若雜質(zhì)的影響反映在低電流密度區(qū),那么電解處理時(shí)應(yīng)控制在低電流密度下進(jìn)行,假使雜質(zhì)的影響反映在高電流密度區(qū),則應(yīng)選用高電流密度進(jìn)行電解;如果雜質(zhì)在高電流密度區(qū)和低電流密度區(qū)都有影響,那么可先用高電流密度電解處理一段時(shí)間,然后再改用低電流密度電解處理,直至鍍液恢復(fù)正常。在一般情況下,凡是用低電流密度電解可以去除的雜質(zhì),為了減少鍍液中主要放電金屬離子的沉積,一般都采用低電流密度電解。事實(shí)上,電鍍生產(chǎn)中,多數(shù)雜質(zhì)的影響反映在低電流密度區(qū),所以通常電解處理的電流密度控制在0.1A/dm2-0.5A/dm2之間.[4]



                

                

                (2)電解處理的要求

                  首先要查明有害雜質(zhì)是否來源于電解過程:電解處理可以去除某些雜質(zhì),但有時(shí)也會產(chǎn)生雜質(zhì)。例如有害雜質(zhì)來源于不純的陽極,電解處理時(shí)仍用這種陽極,那么隨著電解過程的進(jìn)行,雜質(zhì)會越積越多;又如雜質(zhì)來源于某些化合物在電極上的分解,那么電解將使這類分解產(chǎn)物逐漸增多。這樣的電解處理,不但不能凈化鍍液,反而會不斷加重鍍液的污染。因此,在電解處理前,要進(jìn)行必要的檢查,預(yù)防處理過程中產(chǎn)生有害雜質(zhì)。





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              沖壓件缺陷點(diǎn)評規(guī)則 1、開裂 檢測方式 :看著 點(diǎn)評規(guī)則: A類缺陷:沒有通過培訓(xùn)的客戶也可以注意到的開裂,該類缺陷的沖壓件是客戶不可以接納的,發(fā)覺后務(wù)必馬上對沖壓件開展凍潔。 B類缺陷:看得清的可明確的微小開裂,該類缺陷沖壓件在Ⅰ、Ⅱ區(qū)是不可以接納的,別的地區(qū)容許作補(bǔ)焊返修解決,但返修部位是消費(fèi)者不容易發(fā)現(xiàn)的且務(wù)必考慮沖壓件的返修規(guī)范。 C類缺陷:處在含糊不清的,細(xì)心檢測后明確的缺陷,該類缺陷的沖壓件在Ⅱ區(qū)內(nèi)部、Ⅲ、Ⅳ區(qū)作補(bǔ)焊返修解決,但返修部位是消費(fèi)者不容易發(fā)現(xiàn)的且務(wù)必考慮沖壓件的返修規(guī)范。


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