脈沖激光沉積裝置價(jià)格誠(chéng)信企業(yè)「沈陽(yáng)鵬程」

PLD450型脈沖激光鍍膜介紹

以下是沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您一起分享的內(nèi)容，沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)脈沖激光沉積，歡迎新老客戶(hù)蒞臨。

技術(shù)指標(biāo)：

極限真空度：≤6.7×10 Pa　　

恢復(fù)真空時(shí)間：從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min　　

系統(tǒng)漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；　　

真空室：Ф450球型真空室 ，　　

基片尺寸：可放置4″可實(shí)現(xiàn)公轉(zhuǎn)換靶位描等基片加熱可連續(xù)回轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速5-60轉(zhuǎn)/分基片與蒸發(fā)源之間距離300-350mm可調(diào)。　　

二維掃描機(jī)械平臺(tái)，執(zhí)行兩自由度掃描,控制的內(nèi)容主要有公轉(zhuǎn)換靶、靶自轉(zhuǎn)、樣品自轉(zhuǎn)、樣品控溫、激光束掃,

質(zhì)量流量控制器1路　　

烘烤溫度：150℃數(shù)顯自動(dòng)熱偶控溫（高溫爐盤(pán)，數(shù)顯自動(dòng)熱偶控溫可加熱到800℃）

脈沖激光沉積系統(tǒng)配置介紹

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脈沖激光沉積系統(tǒng)配置：

生長(zhǎng)室，進(jìn)樣室可選水平、垂直兩種靶臺(tái)可選激光加熱和輻射加熱兩種樣品臺(tái)可選，激光加熱高的溫度1200℃工藝氣路可以任意搭配配備高壓RHEED，工作氣壓可達(dá)100Pa可預(yù)留法蘭，用于LEED，K-Cell, E-beam等其它可選項(xiàng)如臭氧發(fā)生器，離子源，掩膜系統(tǒng)等。智能視窗不僅可準(zhǔn)確監(jiān)視沉積過(guò)程中的靶材激光注入量（OTLF），而且可長(zhǎng)時(shí)間保持激光束光路的清潔6。

脈沖激光沉積原理

以下內(nèi)容由沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供，今天我們來(lái)分享脈沖激光沉積的相關(guān)內(nèi)容，希望對(duì)同行業(yè)的朋友有所幫助。想要更多的了解，歡迎咨詢(xún)圖片上的熱線(xiàn)電話(huà)或關(guān)注沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司網(wǎng)站！

脈沖激光沉積原理：在真空環(huán)境下利用脈沖激光對(duì)靶材表面進(jìn)行轟擊，利用激光產(chǎn)生的局域熱量將靶材物質(zhì)轟擊出來(lái)，再沉積在不同的襯底上，從而形成薄膜。

常規(guī)沉積條件下的組合合成

脈沖激光沉積系統(tǒng)特點(diǎn)及優(yōu)勢(shì)：

可根據(jù)客戶(hù)需求定制產(chǎn)品，靈活性高，并提供專(zhuān)業(yè)的技術(shù)支持；靶臺(tái)可以安裝6個(gè)靶位，靶材更換靈活；樣品臺(tái)樣品尺寸從10x10mm樣品到2英寸樣品均適用；進(jìn)樣室可以存儲(chǔ)多個(gè)靶和樣品；交易過(guò)程無(wú)需繁瑣的進(jìn)、出關(guān)手續(xù), 交貨期短，性?xún)r(jià)比高；

沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司擁有先進(jìn)的技術(shù)，我們都以質(zhì)量為本，信譽(yù)高，我們竭誠(chéng)歡迎廣大的顧客來(lái)公司洽談業(yè)務(wù)。如果您對(duì)脈沖激光沉積感興趣，歡迎點(diǎn)擊左右兩側(cè)的在線(xiàn)客服，或撥打咨詢(xún)電話(huà)。