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              磁控濺射機(jī)公司免費(fèi)咨詢 沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)

              發(fā)布時(shí)間:2021-09-20 19:37  

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              什么是磁控濺射?

              磁控濺射是物理氣相沉積的一種。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場(chǎng),利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料,且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。上世紀(jì) 70 年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場(chǎng),利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

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              直流磁控濺射技術(shù)的原理

              沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專業(yè)生產(chǎn)、銷售磁控濺射產(chǎn)品,我們公司堅(jiān)持用戶為上帝,想用戶之所想,急用戶之所急,以誠(chéng)為本,講求信譽(yù),以產(chǎn)品求發(fā)展,以質(zhì)量求生存,我們熱誠(chéng)地歡迎各位同仁合作共創(chuàng)輝煌。

              直流磁控濺射技術(shù)其原理是:在磁控濺射中,由于運(yùn)動(dòng)電子在磁場(chǎng)中受到洛侖茲力,它們的運(yùn)動(dòng)軌跡會(huì)發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)生螺旋運(yùn)動(dòng),其運(yùn)動(dòng)路徑變長(zhǎng),因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù),使等離子體密度增大,從而磁控濺射速率得到很大的提高,而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作,降低薄膜污染的傾向;另一方面也提高了入射到襯底表面的原子的能量,因而可以在很大程度上改善薄膜的質(zhì)量。所不同的是電場(chǎng)方向,電壓電流大小而已沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司本著多年磁控濺射產(chǎn)品行業(yè)經(jīng)驗(yàn),專注磁控濺射產(chǎn)品研發(fā)定制與生產(chǎn),先進(jìn)的磁控濺射產(chǎn)品生產(chǎn)設(shè)備和技術(shù),建立了嚴(yán)格的產(chǎn)品生產(chǎn)體系,想要更多的了解,歡迎咨詢圖片上的熱線電話。同時(shí),經(jīng)過多次碰撞而喪失能量的電子到達(dá)陽(yáng)極時(shí),已變成低能電子,從而不會(huì)使基片過熱。因此磁控濺射法具有“高速”、“低溫”的優(yōu)點(diǎn)。



              濺射鍍膜的特點(diǎn)

              濺射就是從靶表面撞擊出原子物質(zhì)的過程。濺射產(chǎn)生的原子或分子沉積到基體(零件)表面的過程就是濺射鍍膜。

              濺射鍍膜與真空鍍膜相比,有如下特點(diǎn):

              1.任何物質(zhì)都可以濺射, 尤其是高熔點(diǎn)金屬、低蒸氣壓元素和化合物;

              2.濺射薄膜與襯底的附著性好;

              3.濺射鍍膜的密度高,孔少,膜層純度高;

              4.膜層厚度可控性和重復(fù)性好。

              以上就是為大家介紹的全部?jī)?nèi)容,希望對(duì)大家有所幫助。如果您想要了解更多磁控濺射產(chǎn)品的知識(shí),歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。







              磁控濺射鍍膜機(jī)導(dǎo)致不均勻因素哪些?

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              原理上講,兩點(diǎn):氣場(chǎng)和磁場(chǎng)

              磁控濺射在0.4Pa的氣壓情況下離子撞擊靶材,濺射出粒子沉積到基材上,整體靶材的電壓幾乎一致,不影響濺射速率。

              0.4Pa的氣場(chǎng)情況是濺射速率較高的情況,氣場(chǎng)變化,壓強(qiáng)變大和變小都會(huì)影響濺射速率。

              磁場(chǎng)大,束縛的自由電子增多,濺射速率增大,磁場(chǎng)小,束縛的自由電子就少,濺射速率降低。

              穩(wěn)定住氣場(chǎng)和磁場(chǎng),濺射速率也將隨之穩(wěn)定。

              在實(shí)際情況下,氣場(chǎng)穩(wěn)定,需要設(shè)計(jì)布?xì)庀到y(tǒng),將布?xì)庀到y(tǒng)分級(jí)布置,保障鍍膜機(jī)腔體內(nèi)不同位置的進(jìn)氣量相同,同時(shí),布?xì)庀到y(tǒng)、靶材、基材等要遠(yuǎn)離鍍膜機(jī)的抽氣口。帶有14”立方形不銹鋼腔體,4個(gè)2”的磁控管,DC直流和RF射頻電源。需要穩(wěn)定磁場(chǎng),用高斯計(jì)測(cè)量靶材表面磁場(chǎng)強(qiáng)度,由于磁場(chǎng)線本身是閉合曲線,靶材磁場(chǎng)回路兩端磁場(chǎng)強(qiáng)度自然比中間位置強(qiáng),可以選擇用弱磁鐵,同時(shí),基材要避開無法調(diào)整的磁場(chǎng)變化較大的部分。

              另外,在設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)方面,磁控濺射過程中,需要基材與靶材保持同軸,如果旋轉(zhuǎn)、直線運(yùn)行的話,也要同軸旋轉(zhuǎn)、直線運(yùn)行。