離子鍍膜設備廠家詢問報價【至成真空科技】

真空鍍膜技術可增加五金飾品發展勢頭

五金飾品是今年來在中國制造業興起的產業，隨著我國生活水平的提高，人們對金屬產品的美觀感越來越重視。同時歐美市場本來就有五金裝飾的傳統，所以這個行業越來越有蓬勃發展的勢頭。

五金飾品的美觀感如何得來呢?這就要說到鍍膜技術。

五金飾品美觀感需要使用真空鍍膜技術，需要采用磁控多弧離子鍍膜方式在物品表面鍍制金屬膜、氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、及鈦、鎳、鉻、銅、等化合物膜、多層超硬膜、氮化鈦摻金膜和合金膜，增加產品美觀感，提高產品檔次。

真空鍍膜機液態電漿拋光原理

真空鍍膜機此方法將待拋光工件浸入加熱的電解質水溶液中，并對其施加正極性電壓，該電解液無公害且廉價低濃度,所施加的電壓為直流電壓，工件可以是不銹鋼、工具鋼、低碳鋼、銅、金和鋁等導電材料。在適當的工作條件下，

真空鍍膜機工件表面會出現穩定的蒸氣氣體層，該氣體層會把被處理表面與電解質水溶液隔開，從而導致表面與電解液蒸氣之間產生強烈的等離子體化學和電化學反應，使被處理表面產生陰極氧化，同時又使陰極氧化層受到化學侵蝕，在氧化速度與侵蝕速度相等時出現拋光效果，其表現為光潔度上升及反射率提高。當氧化層薄且又足以抵御侵蝕作用時，

真空鍍膜機其反射率出現高值。微觀不平處的氧化層薄，因此侵蝕總是發生在凸起部位。此外，被拋光表面被施加足夠高的電壓后，它和氣體層、蒸氣、電解液之間會產生很高的電場強度，這種強度也在微觀不平處得到強化。這些作用的綜合效果，使表面微觀凸起部位被削平，達到拋光效果。

真空鍍膜機等離子也稱為物質的第四態，是一種電磁氣態放電現象，使氣態粒子部分電離，這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團、離子和電子。真空鍍膜機等離子就是在高溫高壓下，拋光劑水溶，在高溫高壓下，電子會脫離原子核而跑出來，原子核就形成了一個帶正電的離子，當這些離子達到一定數量的時候可以成為等離子態，等離子態能量很大，當這些等離子和要拋光的物體摩擦時，頃刻間會使物體達到表面光亮的效果

真空鍍膜機設備真空鍍膜機系統組成

真空鍍膜機等離子體束濺射鍍膜機主要由射頻等離子體源、真空獲得系統、電磁線圈（發射線圈及匯聚線圈）、偏壓電源、真空室（包括靶材及基片等）、真空控制系統等部分構成。其顯著特點是它的等離子體發生控制系統，其示意圖如圖1所示。等離子體發生控制系統是鍍膜機中的關鍵部分，其中射頻等離子體源位于真空室的側面，并在等離子體源的出口處及濺射靶材的下方分別配置有一個電磁線圈。當兩個線圈同向通過電流時，線圈合成的磁場將引導等離子體源中產生的電子沿磁場方向運動，從而使等離子體束被約束在磁場方向上。同時靶材加有負偏壓，使濺射離子在電場的作用下加速撞擊靶表面，產生濺射作用。

真空鍍膜機等離子體發生控制系統

真空鍍膜機這種鍍膜機具有非常靈活的控制方式，例如濺射速率可以通過調節靶材偏壓和改變等離子體源的射頻功率這兩種途徑進行調節。等離子體發生裝置與真空室的分離設計是實現濺射工藝參數寬范圍可控的關鍵，而這種參數闊范圍的可控性使得特定的應用能夠獲得優化的工藝參數。此外，還可以通過控制系統的真空度來進行濺射速率的調節。

真空鍍膜機中所示曲線為靶電流與偏壓曲線、恒定電流密度時濺射速率與靶偏壓的關系，其中恒定電流時射頻功率為500W。