納米涂層公司好貨源好價格 菱威派瑞林鍍膜工廠

       派瑞林涂層是化學氣相沉積法，是反應物質在氣態條件下發生空間氣相化學反應，在固態基體表面直接生成固態物質，進而在基材表面形成涂層的一種工藝技術。派瑞林薄膜制備過程分為三步：單體的汽化、裂解、在基材表面進行附著沉積。

       紫外線照射的薄膜與未曝光的薄膜之間的故障時間之間的巨大差異為聚對二C和N的正確使用條件提供了重要的認識。聚對二D，C，N，AF4的化學結構定義了由于紫外線引起的降解接觸。聚對二N是未取代的烴分子，聚對二C每個重復單元具有一個加氯基，聚對二D每個重復單元具有兩個加氯基。相比之下，聚對二AF4用氟原子取代了化學品苯環上的氫原子，從而大大增強了其紫外線穩定性。

       真空涂層技術發展到了今天還出現了PCVD(物理化學氣相沉積)、MI-CVD(中溫化學氣相沉積)等新技術，各種涂層設備、各種涂層工藝層出不窮。目前較為成熟的PVD方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。多弧鍍設備結構簡單，容易操作。多弧鍍的不足之處是，在用傳統的DC電源做低溫涂層條件下，當涂層厚度達到0.3μm時，沉積率與反射率接近，成膜變得非常困難。而且，薄膜表面開始變朦。多弧鍍另一個不足之處是，由于金屬是熔后蒸發，因此沉積顆粒較大，致密度低，耐磨性比磁控濺射法成膜差。可見，多弧鍍膜與磁控濺射法鍍膜各有優劣，為了盡可能地發揮它們各自的優越性，實現互補，將多弧技術與磁控技術合而為一的涂層機應運而生。在工藝上出現了多弧鍍打底，然后利用磁控濺射法増厚涂層，后再利用多弧鍍達到終穩定的表面涂層顏色的新方法。

       原子層沉積是在一個加熱反應器中的襯底上連續引入至少兩種氣相前驅體物種，化學吸附的過程直至表面飽和時就自動終止，適當的過程溫度阻礙了分子在表面的物理吸附。

       目前可以沉積的材料包括：氧化物，氮化物，氟化物，金屬，碳化物，復合結構，硫化物，納米薄層等。 中空納米管，隧道勢壘層，光電電池性能的提高，納米孔道尺寸的控制，高高寬比納米圖形，微機電系統（MEMS）的反靜態阻力涂層和疏水涂層的種子層，納米晶體，ZnSe涂層，納米結構，中空納米碗，存儲硅點涂層，納米顆粒的涂層，納米孔內部的涂層，納米線的涂層。

       派瑞林(Parylene)中文名為聚對二，是一種高分子熱可塑性聚合體，由單體對二在真空狀態下均勻分布在被涂裝物的縫隙和表層然后聚合。運用氣相沉積的處理技術，可以于物體表面均勻涂覆形成膜厚，是一種保護性高分子材料。派瑞林(Parylene)它可在真空下氣相沉積，派瑞林(Parylene)活性分子的良好穿透力能在元件內部、底部，周圍形成無，厚度均勻的透明絕緣涂層，給元件提供一個完整的防護涂層，抵御酸堿、鹽霧、霉菌及各種腐蝕性氣件的侵害，這種室溫沉積制備的0.1～100μm薄膜涂層，厚度均勻、致密無、透明無應力、不含助劑、不損傷工件、有優異的電絕緣性和防護性，是當代有效的防潮、防霉、防腐、防鹽霧涂層材料。