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發布時間:2020-11-29 07:08  
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真空鍍膜主要利用輝光放電(glowdischarge)將氣(Ar)離子撞擊靶材du(target)表面,靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氣離子化,造成靶與氣離子間的撞擊機率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glowdischarge)將氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面,電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負電極表面,這個沖擊將使靶材的物質飛出而沉積在基板上形成薄膜。
極值監控法:當膜厚度增加的時候其反射率和穿透率會跟著起變化,當反射率或穿透率走到極值點的時候,就可以知道鍍膜之光學厚度ND是監控波長的四分之一的整倍數。但是極值的方法誤差比較大,因為當反射率或者透過率在極值附近變化很慢,亦就是膜厚ND增加很多,R/T才有變化。反映比較靈敏的位置在八分之一波長處。
3.定值監控法:此方法利用停鍍點不在監控波長四分之一波位,然后由計算機計算在波長一時總膜厚之反射率是多少,此即為停止鍍膜點。
三:無環境污染:目前國家大力倡導生產環保,因為一切鍍層資料都是在真空環境下經過等離子體堆積在工件表面,沒有溶液污染,所以對環境的損害適當小。
可是因為取得真空和等離子體的儀器設備精細貴重,并且堆積技術還把握在少量技術人員手中,沒有很多被推行,其出資和日常出產維護費用貴重.可是跟著社會的不斷進步,真空電鍍加工技術的優勢會越來越明顯,在某些職業替代傳統的濕法電鍍是大勢所趨。
真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面,它是以真空技術為基礎,利用物理或化學方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術,為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說,在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射,使其在被涂覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法,稱為真空鍍膜。
五金與塑料電鍍材料上的區別
五金電鍍的基材是金屬,而塑料電鍍的基材是塑料。由于基材不一樣,其前期所處理的工藝完全不一樣,但是后續電鍍基本都一樣。這是從兩者材料上所發現的區別。
您知道電鍍加工廠表面工程的功能嗎?今天小編來具體為大家分析下,希望對大家有所幫助。
表面工程是多學科交叉、綜合,多技術融合、集成的新興學科,表面工程的優勢是能夠以低成本、低能耗制備出優于本體材料性能、多于本體材料功能,更加適宜于服役環境要求的新表面。