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研磨機變速控制階段的特征

研磨機變速控制階段的特征 研磨機是平面研磨處理的主要設(shè)備，在五金制品、藍寶石襯底、硅片等產(chǎn)品具有重要應用意義。在研磨機整個工作過程中有三個階段，不同階段的速度有所不同。下面就來簡單探討這三個階段的研磨機速度是怎樣的？ 在開始階段，研磨機應該呈升速狀態(tài)，可以通過人為控制磨具速度從零由慢到快增速。在正式階段，研磨機應該處于恒速旋轉(zhuǎn)。在結(jié)束階段，加速度的變化出現(xiàn)一個拐點，速度由值慢慢減小到零。

平面研磨機的兩種設(shè)備類型

平面研磨機的兩種設(shè)備類型 平面研磨機是用于工件平面研磨拋光的設(shè)備，在打造鏡面效果和光滑表面有著突出的作用。平面研磨拋光有單面和雙面兩種方式的研磨拋光方式，相對應的就有單面研磨拋光機和雙面研磨拋光機。 像我們?nèi)粘＝佑|的手機玻璃、藍寶石、陶瓷、金屬等表面光滑的產(chǎn)品都是通過單面研磨拋光機加工而成。尤其對于超薄工件、體積大的工件和易損工件，單面研磨拋光機的研磨加工優(yōu)勢愈加明顯。雙面研磨拋光機主要是通過上下研磨盤相反方向轉(zhuǎn)動進行工作，在光學玻璃行業(yè)的硅片、藍寶石襯底、外延片中的應用具有重要意義，雙面研磨拋光機在雙面研磨拋光后可以工件達到≤0.002mm的平面誤差。 平面研磨機用于研磨拋光是非常實用的設(shè)備，代替了傳統(tǒng)低效率的研磨加工方式，提高了研磨加工行業(yè)的整體工作效率，給相關(guān)行業(yè)帶來更多的經(jīng)濟效益。

平面研磨機需要的設(shè)備有哪些

平面研磨機需要的設(shè)備有哪些 研磨機主機采用調(diào)速電機驅(qū)動，配置大功率減速系統(tǒng)，軟啟動、軟停止，運轉(zhuǎn)平穩(wěn)。通過上、下研磨盤、太陽輪、游星輪在加工時形成四個方向、速度相互協(xié)調(diào)的研磨運動，達到上下表面同時研磨的運作。下研磨盤可升降，方便工件裝卸。氣動太陽輪變向裝置，控制工件兩面研磨精度和速度。隨機配有修正輪，用于修正上下研磨盤的平行誤差。 1、磨盤：如遇到較軟的工件材料時，比如說研磨光學玻璃這種材質(zhì)的工件，我們可以采用半軟質(zhì)的磨盤（比如錫盤）或者軟質(zhì)的磨盤（比如瀝青盤）等，使用這類研磨盤的缺點是磨盤比較容易保持平面度，所以會對加工工件的平面度產(chǎn)生一定的影響，而優(yōu)點是研磨出的工件表面變質(zhì)層較小，且表面粗糙度也小。要想獲取較高的研磨表面質(zhì)量，需選用正確且適合的磨盤。 2、磨粒：它主要是按照硬度分為兩類（硬磨粒和軟磨粒），選用研磨時用到的磨粒具備功能體現(xiàn)為形狀、尺寸均勻一致；能適當?shù)钠扑椋骨腥袖h利；磨粒的熔點要比工件熔點高；磨粒在加工也中易分散等。 3、加工液：研磨拋光加工液通常由基液（水性或油性）、磨粒、添加劑三部分組成，作用是供給磨粒、排屑、冷卻和潤滑。對加工液的要求如下： 1）能夠有效散熱，以免研具和工件表面熱變形； 2）不可污染工件的； 3）粘性低的，可提高磨粒流動性； 4）化學物理性能穩(wěn)定的，不會因放置或者溫升而分解變質(zhì)； 5）能夠較好地分散磨粒的。 在平面研磨機研磨拋光時，會伴有發(fā)熱現(xiàn)象，除了工件和研具因溫度上升而發(fā)生形變難以進行高精度研磨外，在局部的磨粒作用點上也會產(chǎn)生相當高的溫度，使加工變質(zhì)層深度增加。而適當?shù)毓┙o加工液，可以有效保證研具有良好的耐磨性工件的形狀精度及較小的加工變質(zhì)層。添加劑的作用是放置或延緩磨料沉淀，并對工件發(fā)揮化學作用以提高研磨拋光加工效率和質(zhì)量。