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什么是光學鍍膜：

光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。

光學鍍膜原理：真空鍍膜真空鍍膜：真空鍍膜主要是指需要在更高真空下進行的涂料，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等多種涂料，所以。蒸發和濺射有兩種主要類型。將被鍍材料制成基材，將電鍍材料用作靶材或藥材。襯底處于與靶相同的真空中。

蒸發涂層通常是加熱目標，以使表面組分以自由基或離子的形式蒸發，并通過成膜方法（散射島結構-梯形結構-層狀生長）沉積在基材的表面上，薄膜。

對于濺射狀涂層，很容易理解目標材料是用電子或高能激光器轟擊的，表面組分以自由基或離子的形式濺射，后沉積在基底表面上終形成一部薄膜。

常見的光學鍍膜材料有以下幾種：

1、二氧化硅材料特點：無色透明晶體，熔點高，硬度大，化學穩定性好。純度高，用其制備高質量Si02鍍膜，蒸發狀態好，不出現崩點。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。

2、氧化鋯材料特點白色重質結晶態，具有高的折射率和耐高溫性能，化學性質穩定，純度高，用其制備高質量氧化鋯鍍膜，不出崩點。

熱成型模真空鍍膜機有什么優勢：

熱擠壓模：熱擠壓過程中所使用的鐵合金與非鐵合金工具必須經受因腐蝕與超高溫而產生的高成形壓力，嚴重的磨粒磨損以及粘著磨損。HC物理氣相沉積涂層與HC化學氣相沉積涂層展現了其高韌性，耐磨性，抗腐蝕性以及熱穩定性，而這些性能恰恰能夠明顯地提高工具的使用效率。HC化學氣相沉積涂層通常適用于擁有復雜幾何圖形和較大長寬比的工具。HC08,HC10或HC29涂層適用于公差要求不高的工具，而結合了滲氮處理的HC35,HC22或HC30涂層適用于公差要求很高的熱擠壓工具。

熱鍛模：熱鍛造過程中所使用的工具必須經受高成形壓力，嚴重的磨粒磨損以及粘著磨損，并且需要經歷要求嚴苛的熱環境條件。另外，它們必須經受高水平的沖擊，因此地提升工具性能變得更具挑戰性。HC物理氣相沉積涂層具有高韌性，耐磨性，熱穩定性以及抗擦傷性，而這些性能恰恰能夠提高工具的使用效率以及鐵合金與非鐵合金產品的質量。

結合了滲氮處理的HC22,HC25與HC30涂層適用于熱鍛造工具。

真空鍍膜封的安裝與使用

真空鍍膜封的安裝與使用 1、機械密封對機器精度的要求：（以真空泵的機械密封為例）（1）安裝機械密封部位的軸（或軸套）的徑向跳動公差大不超過0.04～0.06mm.（2）轉子軸向竄動不超過0.3mm.（3）密封腔體與密封端蓋結合的定位端面對軸（或軸套）表面的跳動公差大不超過0.04～0.06mm. 2、密封件的確認：（1）確認所安裝的密封是否與要求的型號一致。（2）安裝前要仔細地與總裝圖對照，零件數量是否齊全。（3）采用并圈彈簧傳動的機械密封，其彈簧有左、右旋之分，須按轉軸的旋向來選擇。