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發布時間:2021-04-10 13:08  
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ParyleneC 在芳烴上一個氫被氯原子取代,具有非常低的水分子和腐蝕性氣體的透過率,沉積生長速率也比N型快得多,是目前應用廣、防護效果好的粉材。ParyleneD 在芳烴上二個氫被二個氯原子取代,具有阻燃性。在更高溫度下具有相對更好的物理及電性能,同時與N、和C型相比,具有更好的熱穩定性。
ParyleneHT是苯環上的4個氫原子被氟取代,與C,N,D比較,其薄膜的介電強度高、介電常數低(即透波性能好),熱穩定性好。薄膜本身連續、致密、無,短期耐溫可達450攝氏度,長期耐溫可達350攝氏度,并具有強的抗紫外線能力,更適合作為高頻微波器件的防護材料。
Parylene N是一種很好的介電材料,具有特別很是低的介質損耗、高絕緣強度以及不隨頻率轉變的介電常數。它是所有Paryleng中穿透能力的一種。
Parylene C是系列中第二個具有商業價值的成員。它由雷同的單體系方式成,只是將其中一個芳香烴氫原子用一個氯原子所庖代了。Paryleng C將的電性能,物理性能結合在一路,并且對于潮濕和其它腐蝕性氣體具有低滲透性。除了可以提供真正的無覆形隔離外,Paryleng C是涂敷緊張電路板的材料。
精密模具硬質涂層設備真空鍍膜機是工業化生產理想設備。其大特點是能對各種金屬及非金屬進行表面鍍膜,可鍍制Au、Cu、Al、Cr、Ni,不銹鋼等高溫、低溫耐蝕膜,裝飾保護膜,又可鍍制TiC等硬膜,在機械、輕工、電子、等領域有著廣泛的應用。膜層表面光滑致密,無公害,提高硬度、耐磨損、防腐蝕、美化裝飾,
可通過鹽霧測試、冷熱沖擊測試、酒精測試、人體行業測試、RCA測試、鉛筆硬度測試、折彎測試、百格測試等
該設備離化率高、成膜速率快、低溫等特性,可根據用戶要求設計制造非標設備