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鍍膜技術在平板顯示器中的應用

所有各類平板顯示器都要用到各種類型的薄膜，而且幾乎所有類型的平板顯示器件都需要使用ITO膜，以滿足透明電器的要求。可以毫不夸張的說：沒有薄膜技術就沒有平板顯示器件。

鍍膜技術在太陽能利用方面的應用

當需要有效地利用太陽熱能時，就要考慮采用對太陽光線吸收較多、而對熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。太陽光譜的峰值大約在波長為2-20μm之間的紅外波段。

鍍膜技術在防偽技術中的應用

　　防偽膜種類很多，從使用方法可分為反射式和透射式；從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。

鍍膜技術在光學儀器中的應用

　　人們熟悉的光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開鍍膜技術，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

鍍膜技術在光學儀器中的應用

      人們熟悉的光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開鍍膜技術，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

1. 真空

在空間內，低于環境大氣壓力的氣體狀態。

2. 真空度

表示真空狀態下氣體的稀薄程度，通常用壓力值來表示。

3. 真空區域劃分

低真空 105Pa-102Pa

中真空 102Pa-10-1Pa

高真空 10-1Pa-10-5Pa

超高真空 10-5Pa-10-9Pa

極高真空 <10-9Pa

4. 全壓力

混合氣體中所有組分壓力的綜合。

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，包括真空離子蒸發鍍膜機、磁控濺鍍膜機射、分子束外延鍍膜機和激光濺射沉積鍍膜機等很多種。開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。主要是分成蒸發和濺射兩種。在真空鍍膜設備中需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。基片與靶材同在真空腔中。

真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要，直接影響到電鍍的產品品質。加工件進入鍍膜室前一定要做到認真的鍍前清潔處理。

裝飾性真空鍍的涂層一般分為底涂層和面涂層兩種，它們主要起提高膜層的結合力，降低鍍件表面的粗糙度，提高光亮度，保護金屬膜層的作用。

真空鍍膜設備對底涂層有何要求。

1、對鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能，熱膨脹系數相差小，不起反應，流平性能好。

2、具有良好的真空性能。

3、成膜性能好，涂層的致密度、覆蓋能力、抗溶劑能力與耐光照能力等性能良好。

4、與面涂層有良好的相溶性。

5、施涂性能良好。流平性能良好，有適當的黏度、固化時間短。