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真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一種新型鍍膜技術(shù)，通常稱為干式鍍膜技術(shù)。

真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類，即物理氣相沉積（PVD）技術(shù)和化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)。

物理氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質(zhì)反應(yīng)膜大多以物理氣相沉積方法制得，它利用某種物理過程，如物質(zhì)的熱蒸發(fā)，或受到離子轟擊時物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象，實現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到薄膜的可控轉(zhuǎn)移過程。物理氣相沉積技術(shù)具有膜/基結(jié)合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應(yīng)用的靶材廣泛、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復(fù)性好等優(yōu)點。同時，物理氣相沉積技術(shù)由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下，因此可作為終的處理工藝用于高速鋼和硬質(zhì)合金類的薄膜刀具上。由于采用物理氣相沉積工藝可大幅度提高刀具的切削性能，人們在競相開發(fā)、高可靠性設(shè)備的同時，也對其應(yīng)用領(lǐng)域的擴展，尤其是在高速鋼、硬質(zhì)合金和陶瓷類刀具中的應(yīng)用進行了更加深入的研究。

化學(xué)氣相沉積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng)，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學(xué)氣相沉積等。

多功能鍍膜設(shè)備及鍍膜方法與流程

現(xiàn)在，真空鍍膜機是用于外表處理PVD膜層的專用設(shè)備，包含真空磁控濺射鍍膜機、真空蒸騰鍍膜機、真空多弧離子鍍膜機等，真空磁控濺射鍍膜機可在低溫狀態(tài)下進行非金屬資料進行鍍膜，真空蒸騰鍍膜機和真空多弧離子鍍膜機歸于高溫鍍膜，適用于金屬資料鍍膜。

每種鍍膜機都有各自特色和使用范圍約束，如需鍍制多種不同膜層以及進行金屬和非金屬資料的鍍膜，需求置辦上述多種真空鍍膜機，存在設(shè)備出資大的缺陷。

為了處理上述問題，供給一種多功能鍍膜設(shè)備及鍍膜辦法。手套箱蒸鍍一體機，本體系由真空鍍膜體系和手套箱體系集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完結(jié)薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體空氣下進行樣品的寄存、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。首要用于太陽能電池鈣鈦礦、OLED和PLED、半導(dǎo)體制備等試驗研討與使用。

蒸騰鍍膜與手套箱組合，完成蒸鍍、封裝、測驗等工藝全封閉制造，使整個薄膜成長和器材制備進程高度集成在一個完好的可控環(huán)境空氣的體系中，消除有機大面積電路制備進程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定要素影響，保證了、大面積有機光電器材和電路的制備。

沖壓件真空鍍膜設(shè)備

工具經(jīng)沖壓件真空鍍膜設(shè)備硬質(zhì)涂層處理后，其性能更穩(wěn)定，可出穩(wěn)定、高質(zhì)量的工件，可防止功能性表面、刀刃和拉伸半徑受到磨損，顯著延長工具的使用壽命；使用壽命的延長和行程率的提高在提高生產(chǎn)率的同時降低了單位成本；底層堅硬而頂層摩擦低的涂層系統(tǒng)，降低了粘附磨損，從而可能減少對環(huán)境產(chǎn)生不良影響的潤滑劑的用量，甚至完全不使用潤滑劑；因為涂層減少了工具負荷并因而降低了破損風(fēng)險，生產(chǎn)可靠性得以提高，對于金屬薄板成型工具，涂層可用作磨損指示器，磨損和冷焊的減少改進了工件的表面質(zhì)量，也使工件能夠滿足對其外觀的更高要求，光潔度也與隨后的電鍍工藝更加相匹配。

真空鍍室的真空密封和室內(nèi)運動部件的設(shè)計和用材，充分考慮可承受高溫，配置多只園形電弧蒸發(fā)源，或配多個矩形平面電弧蒸發(fā)源，也可配多只空心陰極槍，同時配置耐沖擊的、具有優(yōu)異滅閃弧性能的偏壓電源，保證足夠等離子體密度和反應(yīng)活性，提高膜層致密性和結(jié)合力。工件可三維運動，提高膜層均勻性。全自動控制提高工藝穩(wěn)定性。

真空鍍膜機光學(xué)厚度的監(jiān)測

真空鍍膜機光學(xué)厚度的監(jiān)測 精度的提高，由于許多因素，但根本的原因是光學(xué)厚度的監(jiān)測。optimalswa-i-05單一波長的光學(xué)監(jiān)測系統(tǒng)，是間接控制，鍍膜機先進的光學(xué)監(jiān)測軟件結(jié)合王博士的發(fā)展，有效地改善和靈敏度變化的光反應(yīng)的膜厚度的減少的誤差的理論方法，提供監(jiān)測波長的反饋或傳輸模式的選擇和廣泛的。特別適用于涂布各種薄膜厚度監(jiān)控包括不規(guī)則的膜。