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大宗特氣供氣系統介紹

大宗特氣供氣系統主要針對大規模量產的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大規模集成電路廠（氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太陽能電池生產線（氣體種類包括NH3），發光二極管的磊晶工序線（氣體種類包括NH3）、5代以上液晶顯示器工廠（氣體種類包括4、3、NF3）、光纖（氣體種類包括SiCl4）、硅材料外延生產線（氣體種類包括HCL）等行業。特種氣體的應用領域主要在集成電路制造、太陽能電池、化合物半導體、液晶顯示器、光纖生產四大領域,其中主要應用于半導體集成電路的生產制造。它們的投資規模巨大，采用1先進的工藝制程設備，用氣需求量大，對穩定和不間斷供應、純度控制和安全生產提出嚴格的要求。

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特種氣體的應用

電子工業是當今推動科技發展的高新技術產業,由于所用氣體的品種多、質量要求高,為有別于其它領域應用的氣體,人們把這類在電子工業中用的氣體統稱為電子特種氣體,它是當今興起的高技術含量、高投入、高附加值的高新技術產業。③可燃氣體的報警裝置應與相應的事故排風裝置設電氣連鎖，當空氣中的可燃氣體濃度達到規定值時，事故排風裝置自動開啟，同時向潔凈廠房的消防安全值班室發出報警信號。電子行業常用的特氣超過三十余種，按危險性質可分為不燃氣體、可燃氣體、氧化性氣體、腐蝕性氣體、毒性氣體等。按照物理形態可分為壓縮氣體、液化氣體和低溫氣體。

特種氣體的應用領域主要在集成電路制造、太陽能電池、化合物半導體、液晶顯示器、光纖生產四大領域,其中主要應用于半導體集成電路的生產制造。在半導體工業中應用的有110余種單元特種氣體,其中常用的有20～30種。

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特氣系統知識分享：一般混合氣體

由兩種以上氣體混合配制而成的氣體,而且主要標出大致濃度,即可滿足使用要求,這種氣體稱為一般混合氣體。

對氣體分析儀用氣體,如含氫10%，其余是氦的混合氣以及含甲1烷5%或10%；含氫40%，其余是氮或氦的混合氣被用作氫火焰總烴檢測儀的燃料氣。

在測定放1射性物質時,使用的混合氣有下列幾種組成:含異丁烷0.95%,或含丁烷1.3%，或含丙烷1.5%，或含甲1烷5%～10%，均以氦為底氣。

深海呼吸用含氧20%～60%,其余是氮或氦的混合氣。激光用氣含CO24%～16%,N210%～25%，其余是氦。

光化學反應、動植物實驗室和金屬腐蝕等研究用的混合氣因關系到公害問題,所以其中二氧化氮、二氧1化硫和硫1化氫等都要保持低濃度。

試驗室集中供氣系統的特點

1、特點：試驗室要求使用載氣流量恒定、氣體純度高，為試驗室選用的分析設備提供量值和壓力穩定的氣體。

2、經濟性：建一個集中的氣瓶間可以節省有限的試驗室空間，更換氣瓶時不需要切斷氣體，保證氣體的連續供應。在儲存、運輸及使用杜瓦罐時不能使其臥倒，應永遠使杜瓦罐保持直立狀態。使用者只需管理較少的氣瓶，支付較少的氣瓶租金，因為使用同一氣體的所有使用點來自于同一個氣源。此種供應方式終會減少運輸費用，減少退還給氣體公司的空瓶中的余氣量，以及良好的氣瓶管理。

3、使用率：集中管道供應系統可以將氣體出口放置在使用點處，這樣的話可以更合理的設計工作場所。

4、安全性：保證其儲存和使用的安全性。保障分析測試人員在實驗中免受有毒有害氣體的侵害。