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PVD鍍膜加工

 PVD鍍膜加工在影響產品質量的五大因素〔操作者、設備、材料、工藝方法及生產環境)中，人是位的。PVD鍍膜故障的發生都與操作工專業技能和工作責任心有關。PVD鍍膜生產管理人員對操作工指導和監督不力，這些在PVD鍍膜企業較普遍存在的狀況,PVD鍍膜使得故障在所難免。要減少PVD鍍膜生產故障，提高PVD鍍膜從業人員的專業技能和工作責任心是十分重要的。

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法。

真空鍍膜的物理過程

PVD（物理氣相沉積技術）的基本原理可分為三個工藝步驟：

（1）鍍料的氣化：即鍍料的蒸發、升華或被濺射從而形成氣化源

（2）鍍料粒子（（原子、分子或離子）的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經過碰撞，產生多種反應。

（3）鍍料粒子在基片表面的沉積

在真空中制備膜層，包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

　　真空鍍膜技術初現于20世紀30年，四五十年開始出現工業應用，工業化大規模生產開始于20世紀80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業中取得廣泛的應用。

　　真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應用場合非常豐富。總體來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優異的電磁屏蔽和導電效果。

真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發展起來的一種新型鍍膜技術，通常稱為干式鍍膜技術。

眾所周知，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學性能。