揚州凈化廠房直銷電話常用指南「多圖」

     潔凈廠房是指廠房內的溫度、潔凈度、室內壓力、氣流速度與氣流分布、噪音振動、照明、靜電控制在某一需要的范圍內，并排除其空氣中的有害空氣、微粒子等污染物，不論外在空氣條件如何變化，其廠房內均能維持原先所設定要求的潔凈度、溫濕度及壓力等的廠房。潔凈廠房的主要作用就是在一個特殊凈化要求的生產環境中制造出優良的產品，其重要性也越來越多地被人們所認識和接受。隨著我國國民經濟的發展、社會的進步和人民生活水平的提高，潔凈廠房已廣泛應用于電子、生物、食品、航空、航天、精密儀器制造等各行各業中。

潔凈室中的溫濕度控制：

    潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。

    具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規模集成電路生產的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間不宜超過25度。

    濕度過高產生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結露，如果發生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面耐難以清除。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發生擊穿。對于硅片生產蕞佳溫度范圍為35—45%。

GMP車間凈化公司建設車間的基本原則：

　　1、不產生：不在車間產生任何灰塵，必須確保以下條件：　　A、GMP車間凈化公司體型人員應穿潔凈服方可進入車間　　B、不使用容易產生灰塵的材料與設備。　　C、不進行不必要的移動。　　D、不帶入無用品。

　　2、快速去除：快速去除車間內灰塵，必須做到以下幾點：　　A、增加換氣率。　　B、在靠近產生灰塵的地方設置排氣裝置。　　C、采用合適的氣流形式以避免灰塵粘在產品上

    潔凈室是指將一定空間范圍內之空氣中的微粒子、有害空氣、菌等之污染物排除，并將室內之溫度、潔凈度、室內壓力、氣流速度與氣流分布、噪音振動及照明、靜電控制在某一需求范圍內，而所給予特別設計之房間。亦即是不論外在之空氣條件如何變化，其室內均能俱有維持原先所設定要求之潔凈度、溫濕度及壓力等性能之特性。