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真空鍍膜技術在光學儀器中的應用

人們熟悉的光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀、以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等。它們都離不開鍍膜技術，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

一般光學儀器中的光學系統都由多個透鏡組成，光線要經玻璃界面，會有相當多的光線被反射掉，透過的光線很少，影響光學儀器的光學效果。為了減少反射損耗，增大光線的透過率，往往在玻璃表面沉積增透膜來提高光的透過率。反射膜與增透膜相反，反射膜要求把入射光大部分或幾乎全部反射回去。例如：光學儀器、激光器、波導管、汽車和燈具的反射鏡都需要鍍反射膜。反射膜有金屬膜和介質膜兩種。鍍制金屬高反射膜常用的材料有鋁、銀、金、銅等。為了提高金屬膜表面的抗擦損能力，往往在表面鍍一層保護膜，如SiO/SiO2/Al2O3。

在激光器和多光束干涉儀反射鏡上，一般沉積低吸收、高反射的全介質反射膜。其結構是在基片上交替沉積光學厚度為λ/4的高、低折射率材料的膜層。

真空鍍膜機的工作原理是怎樣的?

真空鍍膜機的運用非常廣泛，涉入到各個行業，也廣受大家喜愛，那么它的工作原理是怎樣的呢？下面至成真空小編為大家詳細的介紹一下，希望能幫到大家：

真空鍍膜設備主要指需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括多弧離子真空鍍膜設備，真空離子蒸發，光學鍍膜機，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。真空鍍膜的工作原理是膜體在高溫下蒸發落在工件表面結晶。由于空氣對蒸發的膜體分子會產生阻力造成碰撞使結晶體變得粗糙無光，所以必須在高真空下才能使結晶體細密光亮，如果真空度不高結晶體就會失去光澤結合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發體自然散射，結合差工效低光澤差。現在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發分子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，解決了過去自然蒸發無法加工的膜體品種，如鍍鈦鍍鋯等等。

全自動真空鍍膜機

適應于玻璃、塑膠等基片上鍍制各類光學薄膜和其它機能性裝飾薄膜的批量化生產

采用先進的電氣控制系統，良好的用戶操作界面，大大減輕作業人員的負擔

RCS自動鍍膜控制系統保證整個鍍膜過程自動完成

基片架轉動采用磁流體密封技術保證真空密封，中心驅動方式保證薄膜產品的均勻性及重復性

優化的配置、嚴格的品質控制保證產品質量的穩定性和重復性

排氣速率.鍍膜效率的提高，大大縮短了產品生產周期