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鋁材陽極氧化染色對氧化膜的要求

因為染色是在鋁陽極氧化膜的膜孔中進行的，一方面要求膜層具有足夠的孔隙率，另一方面要求膜孔內壁保持一定的活性，所以不是所有的陽極氧化膜都能染上合適的顏色，必須具備下列條件。

1、鋁在硫酸溶液中得到的陽極氧化膜無色而多孔，因此適宜于染色。但是采用交流電陽極氧化時，常常會發生如下反應：

因為膜層中含有硫，雖然也很容易染色，但因染料與膜層中的硫生成硫化物，所以即使在同一種染色液中，直流與交流處理獲得的陽極氧化膜色調往往不一樣。因此在陽極氧化時必須選擇合適的工藝和操作條件，以獲得質量良好的膜層。

其他陽極氧化膜如草酸氧化膜本身呈現黃色，只能染深色。在35 ℃下氧化，獲得了幾乎無色的膜，可很好地作為染色的底層。鉻酸氧化膜層一般也不適于染色，因為膜薄而且孔隙率低，另一方面膜層顏色發灰，也只能染深色。

2、氧化膜層應完整、均勻，不應有劃傷、砂眼、點腐蝕等缺陷。

3、氧化膜應有一定的松孔和吸附性

鋁型材陽極氧化理論解析

陽極氧化時陽極反應，由于電解質是強酸性的：陽極電位較高，因此陽極反應首先是水的電解，產生初生態的 [O] ，氧原子立即在陽極對鋁件表面發生化學級化反應，生成氧化鋁，即薄而致密的陽極氧化膜。這一過程與初始電壓、電流密度的大小有密切關系。

生成的氧化膜在酸性一電解液中，產生化學溶解作用。部分氧化膜在電解液中的溶解又是必須的，否則由于膜的電絕緣性，將阻止電流的繼續通過而影響級化膜的繼續生成。

陰極反應：陰極只是起導電作用和析氫反應，當鋁合金的其他合金元素在陽極過程中溶解后，有可能在陰極上沉積析出。

氧化膜的成長過程包含著相輔相成的兩個方面：

1、膜的電化學生成過程。

2、膜的化學溶解過程。

兩者缺一不可，而且必須使膜層的生成速度恒大于溶解速度，這樣才能獲得較厚的氧化膜。為此，所選擇的電解液性質及工藝規范都必須具備這些條件。

在陽極氧化過程中，由于電位差的作用，帶電質點相對于固體壁發生電滲液流。電滲液流的存在，是陽極氧化膜得以增長的一個必要條件。

?硬質陽極氧化與普通陽極氧化的區別

一、鋁合金硬質氧化的優勢： 1、合金硬質氧化后表面硬度可達HV500左右。 2、氧化膜厚度25-250um。 3、附著力強，根據硬質氧化所生成的氧化特點：所生成的氧化膜有50%滲透在鋁合金內部，50%附著在鋁合金表面（雙向生長）。 4、絕緣性好：擊穿電壓可達2000V（完善的封孔）。 5、耐磨性能好：對于含銅量未超過2%的鋁合金其磨耗指數為3.5mg/1000轉。其他所有的合金磨耗指數不應超過1.5mg/1000轉。 6、無毒：氧化膜和用來生產陽極氧化膜的電化學工藝應對人體無害。 因此很多行業為了減輕產品的重量、機械加工的方便、環保低毒等要求，目前有的部分產品中的部份零部件由鋁合金硬質氧化來代替不銹鋼、電鍍硬鉻等工藝。

二、硬質陽極氧化和普通陽極氧化的區別： 硬質氧化的氧化膜有50%滲透在鋁合金內部，50%附著在鋁合金表面，因此硬質氧化后產品外部尺寸變大，內孔變小。 （一）操作條件方面的差異： 1、溫度不同：普通氧化18-22℃左右，有添加劑的可以到30℃，溫度過高易出現粉末或裂紋；硬質氧化一般在5℃以下，相對來說溫度越低硬質越高。 2、濃度差異：普通氧化一般20%左右；硬質氧化一般在15%或更低。 3、電流/電壓差異：普通氧化電流密度一般：1-1.5A/dm2；而硬質氧化：1.5-5A/dm2；普通氧化電壓≤18V，硬質氧化有時高達120V。 （二）膜層性能方面的差異： 1、膜層厚度：普通氧化膜層厚度相對較薄；硬質氧化一般膜層厚度>15μm，過低達不到硬度≥300HV的要求。 2、表面狀態：普通氧化表面較光滑，而硬質氧化表面較粗糙（微觀，和基體表面粗糙度有關）。 3、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高；而硬質氧化孔隙率低。 4、普通氧化基本是透明膜；硬質氧化由于膜厚，為不透明膜。 5、適用場合不同：普通氧化適用于裝飾為主；而硬質氧化以功能為主，一般用于耐磨、耐電的場合。