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發(fā)布時(shí)間：2020-12-18 03:48
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光刻膠的應(yīng)用
光刻膠的應(yīng)用
1975年，美國(guó)的國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備與材料協(xié)會(huì)首先為微電子工業(yè)配套的超凈高純化學(xué)品制定了國(guó)際統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)——SEMI標(biāo)準(zhǔn)。1978年，德國(guó)的伊默克公司也制定了MOS標(biāo)準(zhǔn)。兩種標(biāo)準(zhǔn)對(duì)超凈高純化學(xué)品中金屬雜質(zhì)和(塵埃)微粒的要求各有側(cè)重，分別適用于不同級(jí)別IC的制作要求。目前，上游電子化學(xué)品（LCD用光刻膠）幾乎全部依賴進(jìn)口，必須加快面板產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵核心材料基礎(chǔ)研究與產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程，才能支撐我國(guó)微電子產(chǎn)業(yè)未來發(fā)展及國(guó)際“地位”的確立。其中，SEMI標(biāo)準(zhǔn)更早取得世界范圍內(nèi)的普遍認(rèn)可。
光刻膠市場(chǎng)
全球光刻膠市場(chǎng)擴(kuò)增，對(duì)光刻膠的總需求不斷提升。據(jù)估計(jì)，2015年國(guó)際光刻膠市場(chǎng)達(dá)73.6億美元，其中PCB光刻膠占比24.5%，LCD光刻膠占26.6%，半導(dǎo)體光刻膠占比24.1%。2010年到2015年期間，國(guó)際光刻膠市場(chǎng)年復(fù)合增長(zhǎng)率約為5.8%；據(jù)中國(guó)產(chǎn)業(yè)信息網(wǎng)數(shù)據(jù)，2015年，PCB光刻膠、LCD光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠的國(guó)際市場(chǎng)增速均在5%左右。在下游產(chǎn)業(yè)的帶動(dòng)下，江瀚咨詢預(yù)計(jì)國(guó)際光刻膠市場(chǎng)規(guī)模在2022年可能突破100億美元。A美國(guó)光刻膠，F(xiàn)uturrex正膠PR1-2000A,去膠液RR4，和顯影液RD6可以解決以上問題。
光刻膠
光刻膠由光引發(fā)劑、樹脂、溶劑等基礎(chǔ)組分組成，又被稱為光致抗蝕劑，這是一種對(duì)光非常敏感的化合物。此外，光刻膠中還會(huì)添加光增感劑、光致產(chǎn)酸劑等成分來達(dá)到提高光引發(fā)效率、優(yōu)化線路圖形精密度的目的。在受到紫外光曝光后，它在顯影液中的溶解度會(huì)發(fā)生變化。正性光刻膠樹脂是一種叫做線性酚醛樹脂的酚醛甲醛，提供光刻膠的粘附性、化學(xué)抗蝕性，當(dāng)沒有溶解存在時(shí)，線性酚醛樹脂會(huì)溶解在顯影液中，感光劑是光敏化合物，最常見的是重氮萘醌（DNQ）。
分類
根據(jù)光刻膠按照如何響應(yīng)紫外光的特性可以分為兩類。
正膠
曝光前對(duì)顯影液不可溶，而曝光后變成了可溶的，能得到與掩模板遮光區(qū)相同的圖形。
優(yōu)點(diǎn)：分辨率高、對(duì)比度好。
缺點(diǎn)：粘附性差、抗刻蝕能力差、高成本。
靈敏度：曝光區(qū)域光刻膠完全溶解時(shí)所需的能量
負(fù)膠egative
Photo Resist）
與正膠反之。
優(yōu)點(diǎn)： 良好的粘附能力和抗刻蝕能力、感光速度快。
缺點(diǎn)： 顯影時(shí)發(fā)生變形和膨脹，導(dǎo)致其分辨率。
靈敏度：保留曝光區(qū)域光刻膠原始厚度的50%所需的能量。
