大型磁控濺射鍍膜設備優惠報價【至成真空科技】

至成真空技術工程有限公司是一家專業研究制造生產真空鍍膜設備及其它真空相關設備的國家高新科技企業。公司本著“專注研究鍍膜工藝，提供的產品及服務”的理念，贏得國內外客戶的滿意及信任，并成功打開國外市場。我們將會秉承客戶的認可，將鍍膜機研發事業推向新的高峰。

本公司制造的真空鍍膜設備系列：電阻蒸發真空鍍膜設備、電子束蒸發真空鍍膜設備、磁控濺射真空鍍膜設備、多弧離子真空鍍膜設備、多功能真空鍍膜專用設備以及真空焊接專用設備等。各類真空鍍膜設備廣泛用于家電電器、鐘表、玩具、車燈燈罩、手機、工具、陶瓷、瓷磚、塑料、玻璃、五金、光學、電子等高科技產業方面，已成功的為客戶開發出滿足各種不同要求的鍍膜工藝方案。

真空磁控濺射鍍膜機用戶設置具體設置

按“用戶設置”鈕進入真空磁控濺射鍍膜機的用戶設置界面，里面的數值除了時間參數可以根據機器運行情況作適當調整外，其余參數經調試設定后一般不作修改。各參數功能如下：

主輥加速時間設定：用于設定主輥從低速度0m/min加速至高速度400m/min的所需時間。單位：5秒。當輸入數值為4時，加速時間是20秒。

主輥減速時間設定：用于設定主輥從高速度400m/min減速至低速度0m/min的所需時間。單位：5秒。

收卷張力零速保持：用于設定零速張力保持時，收卷的力矩輸出值。

放卷張力零速保持：用于設定零速張力保持時，放卷的力矩輸出值。

編碼器輥直徑輸入：此數值為編碼器輥直徑的實際測量值。此數值必須正確無誤，以確保設備運行過程的穩定性。

放卷初徑誤差值正設定：用于設定卷繞系統啟動運行時，“放卷初始卷徑輸入”值允許高于實際測量值的誤差值。

放卷初徑誤差值負設定：用于設定卷繞系統啟動運行時，“放卷初始卷徑輸入”值允許低于實際測量值的誤差值。

擺輥動作時間設定：用于設定擺臂在自動控制模式時，擺輥電眼檢測到信號后擺臂自動往外退的動作時間。

鍍膜行業發展的趨勢

當今鍍膜行業制作方式主要有兩種，一種是化學氣象沉積，一種是化學鍍膜（CVD），一種是物理氣象沉積，也就是真空鍍膜（PVD）。

化學鍍膜是把含有構成薄膜元素的氣態反應劑或液態反應所需其他氣體引入反應室，在襯底表面發生化學反應生成薄膜的過程。在化學薄膜的過程中，容易產生溶液污染，如果鍍層表面雜質多，鍍出來的效果不好。

化學鍍膜需要的反應溫度很高，一般要控制在1000℃左右，但很多基體材料是無法受此高溫，及時硬質合金，雖然能經受高溫，但在化學鍍膜制作的環境下由于高溫也會造成晶粒粗大，引起脆性相，性能變壞。如果在硬質合金上鍍TiN，晶體擴散出來的碳會與溶液發生反應形成脫碳層，該層韌性差，抗彎強度低，造成刀具使用壽命縮短。

真空鍍膜機很好的解決了化學鍍膜產生的一系列問題。真空鍍膜是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電技術，利用其他放電是靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及反應產物沉積在工件上。

所有鍍層材料都是在真空環境下通過等離子體沉積在工件表面，解決了化學鍍膜中的溶液污染問題，不會產生有毒或污染物質，鍍出來的膜層硬度更高，耐磨性和腐蝕性好，性能更穩定。真空鍍膜工藝處理的溫度可以控制在150℃~500℃以下，適用于多種基體材料，可制備多姿多彩的膜層，鍍制硬質合金刀具可使其壽命提高2~10倍。

真空電鍍設備的監控方法

真空電鍍設備的監控方法 1、目視監控：使用眼睛監控，因為薄膜在生長的過程中，由于干涉現象會有顏色變化，我們就是根據顏色變化來控制膜厚度的，此種方式有一定的誤差，所以不是很準確，需要依靠經驗。 2、極值監控法：當膜厚度增加的時候其反射率和穿透率會跟著起變化，當反射率或穿透率走到極值點的時候，就可以知道鍍膜之光學厚度ND是監控波長（入）的四分之一的整倍數。但是極值的方法誤差比較大，因為當反射率或者透過率在極值附近變化很慢，亦就是膜厚ND增加很多，R/T才有變化。反映比較靈敏的位置在八分之一波長處。 3.定值監控法：此方法利用停鍍點不在監控波長四分之一波位，然后由計算機計算在波長一時總膜厚之反射率是多少，此即為停止鍍膜點。