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發布時間:2021-09-12 22:19  
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真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面,它是以真空技術為基礎,利用物理或化學方法,為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說,在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射,使其在被涂覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法,稱為真空鍍膜。
真空鍍膜技術具有下列優點:
(1)薄膜和基體選材廣泛,薄膜厚度可進行控制,以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。
(2)在真空條件下制備薄膜,環境清潔,薄膜不易受到污染,因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。
濺射鍍膜技術是用離子轟擊靶材表面,濺射產生的原子沉積在基體表面形成PVD涂層。通常是利用氣體放電產生氣體電離,其正離子在電場作用下高速轟擊陰極靶體,擊出陰極靶體原子或分子,飛向被鍍基體表面沉積成PVD涂層。磁控濺射鍍膜技術是在濺射鍍膜基礎上發展而來,與濺射鍍膜相比,沉積速率更快,涂層致密且與基體附著性好。
真空鍍膜是在高真空中加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發并凝結在鍍膜部件表面形成薄膜的一種方法。如真空鍍鋁、真空鍍鉻等。
真空鍍膜是真空系統應用發展領域的一個非常重要內容方面,它是以真空處理技術為基礎,利用物理或化學教學方法,并吸收電子束、分子束、離子束等一系列新技術,為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。