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發布時間:2020-12-04 19:48  
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真空鍍膜應用
目前有多種金屬可用作蒸鍍金屬的原材料,但是在包裝技術領域中用得廣、普遍、且有實用經濟價值的應首推鋁(具有高純度的鋁材)在直接真空蒸鍍法中的金屬鍍層厚度一般為0. 007一0. 008mm 。
近已開發的新一代的轉移法真空鍍金屬法中所蒸鍍的金屬厚度只有前者(直接法)的1/500左右(約為0. 000015mm )。過去國外以及目前國內大部采用直接法進行真空鍍金屬工藝,其缺點是耗金屬量相對較多;對基材的平整度和光潔度的要求也特別高;特別是制造所謂“鍍鋁紙”時,除對作為基材的紙張要求具有極1佳的平整、光潔度外,因紙含水量較多(10%左右),在高真空和較高溫度下易失水變脆,使工藝更加復雜,產品成本也相應提高。
開發成功
過去無論是直接法或轉移法生產真空鍍金屬薄膜,均是間隙式成批進行的。其方式是單爐生產,逐次抽成真空。亦即將卷筒狀被蒸鍍基材裝人真空蒸鍍爐中后,按規定要求抽成真空,并開始蒸鍍。待該卷基材全部蒸鍍完畢,打開爐門,解除真空狀態,取出成品。再開始以同樣工序進行第二爐生產。如此周而復始,生產速率既受影響,勞動強度亦大,動力浪費亦多,不符合近代工業大規模連續生產的要求。