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箱式真空鍍膜機(jī)

采用箱式結(jié)構(gòu)，真空系統(tǒng)后置，便于操作和維修；整機(jī)表面平整，方便清潔，特別適合放置在凈化間內(nèi)做穿墻式安裝。

設(shè)備真空系統(tǒng)抽速大，具有抽氣時(shí)間短，真空度高，生產(chǎn)周期短等優(yōu)點(diǎn)。

采用管狀加熱器上烘烤，烘烤溫度均勻，壽命長(zhǎng)，可達(dá)到烘烤溫度350℃，烘烤均勻性270℃±10℃。

工件轉(zhuǎn)動(dòng)采用上部中心驅(qū)動(dòng)，軸承帶水冷，磁流體密封，轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)可靠。

采用石英晶體膜厚控制儀，可實(shí)現(xiàn)鍍膜過(guò)程的自動(dòng)控制。

采用先進(jìn)的鍍膜控制系統(tǒng)，人機(jī)操作界面美觀實(shí)用，系統(tǒng)穩(wěn)定可靠，可實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的手動(dòng)、半自動(dòng)和全自動(dòng)操作。

適用范圍:用于生產(chǎn)IR-CUT濾光片、分色濾光片、高反射膜、AR膜、長(zhǎng)波通、短波通和多種電學(xué)薄膜

真空鍍中對(duì)底涂層的要求：

①對(duì)鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結(jié)合力，熱膨脹系數(shù)相差小，不起反應(yīng)，流平性能好。②具有良好的真空性能。底涂層固化后放氣量少、熱應(yīng)力小、耐熱性能好。③成膜性能好，涂層的致密度、覆蓋能力、抗溶劑能力與耐光照能力等性能良好。④與面涂層有良好的相溶性。由于鍍膜層極薄有孔隙，要求底涂層和面涂層的溶劑和稀釋劑有良好的相溶性。⑤施涂性能良好。流平性能良好，有適當(dāng)?shù)酿ざ取⒐袒瘯r(shí)間短。 真空鍍對(duì)面涂層的要求：①與鍍膜層要有良好的接觸性能;②與底涂層要有一定的相溶性;③成膜性能與施涂性能優(yōu)良;具有適當(dāng)?shù)臋C(jī)械強(qiáng)度;④防潮、抗溶劑、耐腐蝕性能好。抗老化性能強(qiáng)。由于產(chǎn)品的特殊需要，在面涂層上還可進(jìn)一步施涂超硬涂層或彩色涂層等。

真空鍍膜設(shè)備鍍膜過(guò)程的均勻性到底多重要?

真空鍍膜設(shè)備鍍膜過(guò)程的均勻性到底多重要？ 厚度均勻性主要取決于： 1、基片材料與靶材的晶格匹配程度；2、基片表面溫度；3、蒸發(fā)功率，速率；4、真空度；5、鍍膜時(shí)間，厚度大小。組分均勻性：蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對(duì)于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。晶向均勻性：1、晶格匹配度;2、基片溫度;3、蒸發(fā)速率. 對(duì)于不同的濺射材料和基片，參數(shù)需要實(shí)驗(yàn)確定，是各不相同的，鍍膜設(shè)備的好壞主要在于能否控溫，能否保證好的真空度，能否保證好的真空腔清潔度。MBE分子束外沿鍍膜技術(shù)，已經(jīng)比較好的解決了如上所屬的問(wèn)題，但是基本用于實(shí)驗(yàn)研究，工業(yè)生產(chǎn)上比較常用的一體式鍍膜機(jī)主要以離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜為主。

真空鍍膜設(shè)備的化學(xué)成分的分析

真空鍍膜設(shè)備的化學(xué)成分的分析 從蒸發(fā)源射出的蒸汽流脫離蒸鍍?cè)媳砻娴臅r(shí)候溫度很高，能量也比較高，在上升通過(guò)蒸發(fā)區(qū)到達(dá)基材表面的過(guò)程中，由于碰撞、運(yùn)動(dòng)中的能量交換導(dǎo)致動(dòng)能下降，到達(dá)基材表面的粒子很快與基材交換能量，迅速沉積在其表面。 在鍍膜工藝中，離子轟擊改善基材的表面，在蒸發(fā)區(qū)建立等離子氣體以提高氣化微粒功能等輔助手段，較好地解決了鍍膜與基材結(jié)合牢固度的問(wèn)題。 其實(shí)在眾多的鍍膜工藝?yán)铮趸镥兡すに嚭统绦蚴怯蟹浅４蟮碾y度的，因?yàn)樗媾R著很多因素影響，環(huán)境和材料等等，但是氧化物的鍍膜工藝卻是受到廣大的企業(yè)生產(chǎn)的親睞。所以這種鍍膜工藝和設(shè)備的發(fā)展趨勢(shì)會(huì)越來(lái)越好！