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              發布時間:2020-09-06 13:22  

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              泰安燊豪化工有限公司

                    水滑石

              專業生產水滑石


              PVC中的氯含量高達56%,是自熄性聚合物,其氧指數達45%。泰安燊豪化工有限公司水滑石專業生產水滑石塑料助劑與功能母料行業發展現狀【慧聰塑料網】2009年9月24日-9月26日,第二屆東北三省塑料行業高峰論壇在中國盤錦拉開帷幕。而象PE這樣的聚烯烴類材料的氧指數一般為17.4%。這對環保型阻燃提出了新要求。目前,應用較多是Al(OH)3/Mg(OH)2阻燃體系,它的阻燃作用主要基于脫水吸熱效應。Al(OH)3在200-300℃分解,吸熱量為1794J/g;Mg(OH)2在340-490℃分解,吸熱量為785.4J/g,Al(OH)3與Mg(OH)2兩者一起加入,除可自發揮作用,如分解吸熱、生成水蒸氣沖淡可燃氣體濃度、殘渣沉積在塑料表面隔離氧化外,Mg(OH)2:有炭化作用,而Al(OH)3也有促進Mg(OH)2的炭化作用,二者的jia比例大約是2:1。就Al(OH)3/Mg(OH)2阻燃體系而言,要添加60份以上才能達到較好的阻燃效果,這對材料的力學性能和熔體流動性會產生很不利的影響。筆者發現,Al(OH)3/Mg(OH)2以5:4混合,再加入1%的鈦酸酯偶聯劑,充分攪拌后,Al(OH)3/Mg(OH)2與鈦酸酯偶聯劑發生鍵合,很好地結合在一起。鈦酸酯偶聯劑的分子鏈纏結在基體大分子鏈上,可以使制品的拉伸強度達2-3MPa,氧指數達35%。田春明等用含有Fe、Co、Ni、Cu的金屬配合物對軟PVC塑料的阻燃消煙作用進行了研究,發現二合鎳(Ⅱ)的效果hao,并與Al(OH)3/Mg(OH)2有協效作用。近年來,國外采用了一種新型高xiao抑煙材料八鉬酸銨,在取得良好抑煙效果的同時,解決了三氧化鉬對材料的染色問題和三氧化化鉬的粒度分布寬而造成的分散問題。除此之外,趙蕓等研究了納米水滑石(LDH)和納米Mg(OH)2無機阻燃劑對PVC及PE的阻燃效果,LDH是軟PVC的良好的抑煙劑,這與納米LDH分解后生成的產物有相當大的比表面積有關。由于極性的差別,無機阻燃劑與樹脂的相容性較差,影響材料的力學性能和加工性能。劉芳等用原位反應法制備非鹵阻燃PE母料,再添加到PP中,含極性基團的乙烯基單體起到偶聯劑作用,在進行原位反應聚合時,含極性基團的乙烯單體的極性端與阻燃劑以化學鍵的形式緊密結合,非極性的雙鍵端接枝到PP主鏈上,可以顯著提高阻燃劑與PP的相容性。


              LDHs基光功能材料的插層組裝及其限域效應研究

              我們的課題是“LDHs基光功能材料的插層組裝及其限域效應研究”,指導老師是理學院呂超,團隊主要成員有趙振華、沈虎、張寧波。相關研討結果宣布在世界資料期刊《先進資料》(AdvancedMaterials)上,并被選為當期“首插圖(frontispiece)”向讀者要點引薦。我們的就近年來人們對與二維主體材料水滑石(LDHs)有關的研究進行了綜述,簡述了水滑石(LDHs)的特性,介紹了水滑石(LDHs)的相關應用,就發展過程中尚待解決的問題進行總結。基于對LDHs基光功能材料構筑及限域效應的認識,我們提出熒光納米材料碳點在水滑石(LDHs)的插層組裝光功能材料中的應用,為設計和構筑性能可調、結構清晰的復合光功能材料提出新的思路,并對未來發展方向進行了展望。


              塑料助劑與功能母料行業發展現狀


              2009年9月24日-9月26日,第二屆東北三省塑料行業高峰論壇在中國盤錦拉開帷幕。本次塑料產業高峰論壇受到了盤錦市市wei以及市長的高du重視,中國工程塑料協會秘書長鄭愷等一大批專家和企業家參與了此次高峰論壇。

                     在此次塑料產業高峰論壇上,中國工程塑料工業協會塑料助劑專委會副理事長、高ji工程師龔瀏澄就塑料助劑與功能母料行業發展現狀進行了詳盡的闡述。龔指出,當前應該加快技術創新的步伐,積極發展“綠色、環保、無du、高xiao”的塑料助劑產品。



              氨綸纖維行業動態方面:⑴納米技術在聚氨酯氨綸纖維應用取得突破,納米技術已由中科院化學所孫賢育研究員、孔克健研究員和北京大學化學與分子工程學院吳瑾光等科技人員在干法氨綸應用中研究成功,并已獲得了發明專利。該缺點位能夠有用作為電子受限位,有利于光生電子傳導到反響分子,在光催化復原溫室氣體CO2方面展示了非常好的催化功率和循環穩定性。該發明選用了無機層狀納米材料如硅酸鋁鹽的蒙脫土(MMT),鎂鋁鹽的水滑石(LDHS)。首先對納米材料進行有機化表面處理,防止納米材料團聚,未經處理的蒙脫土的層間距為1nm左右,片層面積由于折疊堆積達到數微米。經有機化處理后層間間短為1.9nm,片層面積達到200-300nm。