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真空鍍膜機濺射工藝

真空鍍膜機濺射工藝主要用于真空鍍膜機濺射刻蝕和薄膜沉積兩個方面。濺射刻蝕時，被刻蝕的材料置于靶極位置，受Ar離子的轟擊進行刻蝕。刻蝕速率與靶極材料的濺射產額、離子流密度和濺射室的真空度等因素有關。真空鍍膜機濺射刻蝕時，應盡可能從真空鍍膜機濺射室中除去濺出的靶極原子。常用的方法是引入反應氣體，使之與濺出的靶極原子反應生成揮發性氣體，通過真空系統從濺射室中排出。沉積薄膜時，濺射源置于靶極，受Ar離子轟擊后發生濺射。如果靶材是單質的，則在襯底上生成靶極物質的單質薄膜；若在濺射室內有意識地引入反應氣體，使之與濺出的靶材原子發生化學反應而淀積于襯底，便可形成靶極材料的化合物薄膜。通常，制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接進行濺射而得。在濺射中，濺出的原子是與具有數千電子伏的高能離子交換能量后飛濺出來的，其能量較高，往往比蒸發原子高出1～2個數量級，因而用濺射法形成的薄膜與襯底的粘附性較蒸發為佳。

若在濺射時襯底加適當的偏壓，可以兼顧襯底的清潔處理，這對生成薄膜的臺階覆蓋也有好處。另外，用真空鍍膜機濺射法可以制備不能用蒸發工藝制備的高熔點、低蒸氣壓物質膜，便于制備化合物或合金的薄膜。濺射主要有離子束濺射和等離子體濺射兩種方法。離子束濺射裝置中，由離子槍提供一定能量的定向離子束轟擊靶極產生濺射。離子槍可以兼作襯底的清潔處理和對靶極的濺射。為避免在絕緣的固體表面產生電荷堆積，可采用荷能中性束的濺射。中性束是荷能正離子在脫離離子槍之前由電子中和所致。離子束濺射廣泛應用于表面分析儀器中，對樣品進行清潔處理或剝層處理。由于束斑大小有限，用于大面積襯底的快速薄膜淀積尚有困難。等離子體真空鍍膜機濺射也稱輝光放電濺射。產生濺射所需的正離子來源于輝光放電中的等離子區。靶極表面必須是一個高的負電位，正離子被此電場加速后獲得動能轟擊靶極產生濺射，同時不可避免地發生電子對襯底的轟擊。

真空鍍膜機真空的清洗方法,你知道嗎?

真空鍍膜機真空清洗一般定義為在真空工藝進行前，先從工件或系統材料表面清除所不期望的物質的過程。真空零部件的表面清洗處理是很必要的，因為由污染物所造成的氣體、蒸氣源會使真空系統不能獲得所要求的真空度。此外，由于污染物的存在，還會影響真空部件連接處的強度和密封性能。

一．真空加熱清洗

將工件放置于常壓或真空中加熱．促使其表面上的揮發雜質蒸發來達到清洗的目的，這種方法的清洗效果與工件的環境壓力、在真空中保留時間的長短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關。其原理是加熱工件．促使其表面吸附的水分子和各種碳氫化合物分子的解吸作用增強。解吸增強的程度與溫度有關。在超高真空下，為了得到原子級清潔表面，加熱溫度必高于450度才行．加熱清洗方法特別有效。但有時，這種處理方法也會產生副作用。由于加熱的結果，可能發生某些碳氫化合物聚合成較大的團粒，并同時分解成碳渣

二．紫外線輻照清洗

利用紫外輻照來分解表面上的碳氫化合物。例如，在空氣中照射15h就可產生清潔的玻璃表面。如果把適當預清洗的表面放在一個產生臭氧的紫外線源中．要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機理是：在紫外線照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產生高活性的原子態氧。受激的污物分子和由污物離解產生的自由基與原子態氧作用．形成較簡單易揮發分子．如H203、CO2和N2．其反應速率隨溫度的增加而增加．

熱成型模真空鍍膜機有什么優勢：

熱擠壓模：熱擠壓過程中所使用的鐵合金與非鐵合金工具必須經受因腐蝕與超高溫而產生的高成形壓力，嚴重的磨粒磨損以及粘著磨損。HC物理氣相沉積涂層與HC化學氣相沉積涂層展現了其高韌性，耐磨性，抗腐蝕性以及熱穩定性，而這些性能恰恰能夠明顯地提高工具的使用效率。HC化學氣相沉積涂層通常適用于擁有復雜幾何圖形和較大長寬比的工具。HC08,HC10或HC29涂層適用于公差要求不高的工具，而結合了滲氮處理的HC35,HC22或HC30涂層適用于公差要求很高的熱擠壓工具。

熱鍛模：熱鍛造過程中所使用的工具必須經受高成形壓力，嚴重的磨粒磨損以及粘著磨損，并且需要經歷要求嚴苛的熱環境條件。另外，它們必須經受高水平的沖擊，因此地提升工具性能變得更具挑戰性。HC物理氣相沉積涂層具有高韌性，耐磨性，熱穩定性以及抗擦傷性，而這些性能恰恰能夠提高工具的使用效率以及鐵合金與非鐵合金產品的質量。

結合了滲氮處理的HC22,HC25與HC30涂層適用于熱鍛造工具。

真空鍍膜機鍍膜原理：

高電壓電子槍將以上幾種藥品汽化，均勻分布在鏡片表面。

1.全表面單層鍍膜（FC）:所有接觸空氣的玻璃表面都鍍了單層減反增透膜。如果在所有的空氣介面上都鍍上單層減反增透膜，會在一個波段上取得更高的透光率。為方便工藝，在全表面單層減反膜的設計中，某一片的二個面中心波長通常一致。

2.多層減反增透膜和寬帶膜（MC）:單層膜的剩余反射率仍顯高，偏色現象比較嚴重。要進一步提高透光率，可用雙層Ｖ形增透膜，用層鍍膜控制鏡片的反射率，第二層鍍膜改善光透射率。對于單層氟化鎂膜，光學玻璃的折射率ng是太低，可先鍍一層厚度為λc2/4（λc2為光在鍍膜中的波長）的折射率大于鏡片折射率的一氧化硅膜（折射率為nc2），這時薄膜和基片的組合系統可以用一折射率為v=nc2^2/ng的假想基片來提高鏡片的折射率，然后鍍上一層λc1/4氟化鎂膜層來減少反射率。但對于偏離λ的波長，不能等價也不能滿足干涉相消的條件，故分光曲線呈Ｖ形，色彩仍不平衡。

要進一步消除彩斑幻象，平衡色彩可用雙層或多層Ｗ形寬帶減反增透膜，多層減反增透膜系還原真實色彩，并不是要求鏡片在可見光(370nm―680nm)光譜范圍內透過率一致。而是要求在藍、綠、紅光（370nm―480nm、500-550nm、580nm―680nm）三個通道通過的光線恰好可以合成標準的白光。這種膜系的反射率曲線在520nm-540nm區間形成一個0.8%左右的反射峰，在440nm和640nm處有二個反射谷，形狀像W曲線，所以叫W形減反增透膜。這種膜系的反光為翠綠色所以也稱減反綠膜。