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真空鍍膜設備離子鍍的類型及特點

離子鍍是結合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術而發(fā)展起來的沉積技術。在真空條件下，采用適當?shù)姆绞绞瑰兡げ牧险舭l(fā)，利用氣體放電使工作氣體和被蒸發(fā)物質部分電離，在氣體離子和被蒸發(fā)物質離子的轟擊下，蒸發(fā)物質或其反應產物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過程包括鍍膜材料的蒸發(fā)、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據(jù)鍍膜材料不同的蒸發(fā)方式和氣體的離化方式，構成了不同類型的離子鍍，下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質廣、沉積速率快等優(yōu)點。

表離子鍍的種類及其特點

種類蒸發(fā)源離化方法工作環(huán)境特點用途

直流放電法電阻輝光放電dc:0.1kv～5kv惰性氣體1pa，0.25ma/cm2結構簡單，膜層結合力強，但鍍件溫升高，分散性差！耐熱，潤滑等鍍件

弧光放電法電子束、燈絲弧光放電dc:100v高真空1.33x10-4pa離化率高，易制成反應膜，可在高真空下成膜，利于提高質量切削工具、金屬裝飾等鍍件

空心陰極法空心陰極等離子體電子束dc:0v～200v惰性氣體或反應氣體離化率高，蒸發(fā)速度大，易獲得高純度膜層裝飾、耐磨等鍍件

調頻激勵法電阻、電子束射頻電場13.56mhzdc:0.1kv～5kv惰性氣體或反應氣體離化率高，膜層結合力強，鍍件溫升低，但分散性差光學、半導體等鍍件

電場蒸發(fā)法電子束二次電子dc:1kv～5kv真空不純氣體少，能形成較好的膜電子元件

多陰極法電阻、電子束熱電子dc:0v～5kv惰性氣體或反應氣體低速電子離化效果好裝飾、電子、精密機械等零件

聚焦離子束法電阻聚集離子束dc:0v～5kv惰性氣體因離子聚束，膜層結合力強電子元件

活性反應法電子束二次電子dc:200v反應氣體o2、n2、ch4、c2h4等金屬與反應氣體組合能制備多種傾倒物膜層電子、裝飾、耐磨等鍍件

真空鍍膜機離子鍍是什么?

很多人聽說過離子真空鍍膜機，但是對于真空鍍膜機離子鍍了解甚少，離子鍍是一種鍍膜工藝中的一種，下面為大家詳細介紹一下：首先給大家它定義：蒸發(fā)物質的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術的結合。

它的原理是：蒸發(fā)源接陽極，工件接陰極，當通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發(fā)源與工件之間產生輝光放電。由于真空罩內充有惰性Ar氣，在放電電場作用下部分Ar氣被電離，從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區(qū)。帶正電荷的Ar離子受陰極負高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后，接通蒸發(fā)源交流電源，蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，進入輝光放電區(qū)并被電離。帶正電荷的蒸發(fā)料離子，在陰極吸引下，隨同Ar離子一同沖向工件，當拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。

它能分為四類：①磁控濺射離子鍍。②反應離子鍍。③空心陰極放電離子鍍。④多弧離子鍍。

它的特點：鍍層附著性能好，對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂時，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無起皮或剝落現(xiàn)象發(fā)生；繞鍍能力強，因此這種方法非常適合于鍍復零件上的內孔、凹槽和窄縫，等其他方法難鍍的部位；鍍層質量好，離子真空鍍膜機鍍膜的鍍層組織致密、無孔、無氣泡、厚度均勻；清洗過程簡化。

不同類型鍍膜機的適用范圍是怎樣的呢？

磁控濺射鍍膜設備：應用于信息存儲領域，如磁信息存儲、磁光信息存儲等。磁控濺射鍍膜機：應用于防護涂層，如飛機發(fā)動機的葉片、汽車鋼板、散熱片等。磁控濺射鍍Al膜生產線：應用于太陽能利用領域，如太陽能集熱管、太陽能電池等。光學鍍膜設備：應用于光學薄膜領域，如增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等。

AZO透明導電膜磁控濺射鍍膜生產線：應用于信息顯示領域，如液晶屏、等離子屏等。觸摸屏連續(xù)式鍍膜生產線：應用于觸摸屏領域，如手機、電腦、MP4等數(shù)碼產品屏幕等。磁控中頻多弧離子鍍膜設備：應用于硬質涂層，如切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。PECVD磁控生產線：應用于集成電路制造，如薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。蒸發(fā)式真空鍍膜設備：應用于在裝飾飾品上，如手機殼、表殼、眼鏡架、五金、小飾品等鍍膜。低輻射玻璃鍍膜生產線：應用于建筑玻璃方面，如陽光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。抗反射導電膜連續(xù)磁控濺射生產線：應用于電子產品領域，如液晶顯示器、液晶電視、MP4、車載顯示、手機顯示、數(shù)碼相機和掌聲電腦等。