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泰安燊豪化工有限公司

       水滑石

 專業(yè)生產(chǎn)水滑石

水處理材料方向

重點發(fā)展高xiao、長循環(huán)壽命和選擇性強的吸附和光催化材料：

（1）先進吸附材料。結(jié)合我省冶金、石化、化纖及產(chǎn)品廢水特征，研制高分子螯合劑、生物活性材料、活性炭、膨潤土等吸附材料，實現(xiàn)難降解廢水的高xiao處理及重金屬廢水的快速、高選擇性吸附與富集。

（2）先進光催化材料。針對水體中低濃度有機污染物的特點，實現(xiàn)光催化材料與碳材料的復合，發(fā)展新型的光催化材料，實現(xiàn)有機污染物深度高xiao處理。

近期，中國科學yuan理化技術(shù)研究所超分子光化學研究團隊研究員張鐵銳和英國牛津大學Dermot

O’Hare合作制備了一種富含缺陷的超薄水滑石（LDHs）納米材料，通過精準調(diào)控層板厚度，成功引入了氧缺陷，進而實現(xiàn)了與氧原子鍵合的不飽和配位Zn的合成。在題為Defect-rich

Ultrathin ZnAl-Layered Double Hydroxide Nanosheets for Efficient Photoreduction

of CO2 to CO with Water

的文章中，研究人員通過簡單的水熱合成方法，可控水滑石納米晶的生長微環(huán)境，成功實現(xiàn)了水滑石厚度從280層到2層的調(diào)控，粒徑進一步控制在30

nm。X射線精細結(jié)構(gòu)衍射等手段表明，該超薄納米片表面富含大量的氧缺陷，影響了Zn金屬周圍的配位環(huán)境，進而形成了Zn -Vo復合體。該缺陷位可以有效作為電子受限位，有利于光生電子傳導到反應(yīng)分子，在光催化還原溫室氣體CO2方面展現(xiàn)了非常好的催化效率和循環(huán)穩(wěn)定性。采用傳統(tǒng)方法合成的大粒徑LDH因為沒有該催化活性位，沒有明顯的光催化活性。2008年,時在han國留學的王強獲得國家優(yōu)xiu自費留學生獎學金。通過理論計算和實驗結(jié)合的手段，進一步證實了表面摻雜的氧缺陷作為雜質(zhì)能級，影響了Zn原子周圍電子軌道密度，提高了對CO2吸附能力，促進了光催化還原反應(yīng)。該合成方法簡單，催化劑對空氣等不敏感，易于保存，并且可以規(guī)模化制備；該思路同樣適用于制備其他不飽和金屬（Fe、Co、Ni、Ti等）摻雜的水滑石材料，為制備多相金屬催化劑搭建了一個材料平臺。

環(huán)保型熱穩(wěn)定劑的發(fā)展

　　熱穩(wěn)定劑是塑料加工中重要助劑之一，主要應(yīng)用于PVC樹脂加工中，因此熱穩(wěn)定劑與工業(yè)PVC樹脂以及PVC軟、硬制品的生產(chǎn)比例有密切關(guān)系。工業(yè)PVC制品生產(chǎn)中熱穩(wěn)定劑單獨使用的情況，主要是根據(jù)各產(chǎn)品的特殊性能進行復配使用。泰安燊豪化工有限公司水滑石專業(yè)生產(chǎn)水滑石863計劃“石油催化裂化用關(guān)鍵稀土催化材料”課題通過驗收日前，863計劃新材料技術(shù)領(lǐng)域“石油催化裂化用關(guān)鍵稀土催化材料”課題在洛陽順利通過驗收。復合熱穩(wěn)定劑主要可分以下5類：(1)共沉淀金屬皂復合穩(wěn)定劑;(2)液化金屬皂復合穩(wěn)定劑;(3)超低鉛鹽復合穩(wěn)定劑;(4)稀土復合穩(wěn)定劑;(5)有機錫復合穩(wěn)定劑。由于世界各國情況不同，PVC制品的結(jié)構(gòu)不同，其熱穩(wěn)定劑的消耗量及結(jié)構(gòu)有較大的差異。

　　而國內(nèi)，隨著稀土類、有機銻類、鈣鋅復合類和水滑石類熱穩(wěn)定劑研究和應(yīng)用發(fā)展復合穩(wěn)定劑以其優(yōu)異的性能在不同的應(yīng)用領(lǐng)域得到廣泛的應(yīng)用。其中稀土穩(wěn)定劑以無污染、無du性和良好的光熱穩(wěn)定性逐漸被人們接受。

氨綸纖維行業(yè)動態(tài)方面：⑴納米技術(shù)在聚氨酯氨綸纖維應(yīng)用取得突破,納米技術(shù)已由中科院化學所孫賢育研究員、孔克健研究員和北京大學化學與分子工程學院吳瑾光等科技人員在干法氨綸應(yīng)用中研究成功，并已獲得了發(fā)明專利。該發(fā)明選用了無機層狀納米材料如硅酸鋁鹽的蒙脫土（MMT），鎂鋁鹽的水滑石（LDHS）。在此次塑料產(chǎn)業(yè)論壇上，中國工程塑料工業(yè)協(xié)會塑料助劑專委會副理事長、工程師龔瀏澄就塑料助劑與功能母料行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀進行了詳盡的闡述。首先對納米材料進行有機化表面處理，防止納米材料團聚，未經(jīng)處理的蒙脫土的層間距為1nm左右，片層面積由于折疊堆積達到數(shù)微米。經(jīng)有機化處理后層間間短為1.9nm，片層面積達到200－300nm。