真空鍍膜系統生產廠家給您好的建議

ST系列鍍膜機

ST系列鍍膜機系我司標準化產品，滿足大部分實驗室科研需求，豐富的可選配置也可響應您的特殊需要。特點：1、集成一體化結構。

2、極限真空度高，可達7×10-5Pa，可保證更高的鍍膜純凈度，提高鍍膜質量。

3、從大氣到工作背景真空（7×10-4Pa）時間短，30分鐘左右（充干燥氮氣）。 系統停泵關機12小時后真空度：≤8Pa。

4、整機采用柜式結構，密封性能好，防塵防水，安全。

5、磁控、熱蒸發多種鍍膜方式可選。

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薄膜均勻性概念

1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。一、真空主體——真空腔根據加工產品要求的各異，真空腔的大小也不一樣，目前應用的有直徑1。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。

2.化學組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。但在鍍鎘中含有氫，所以在飛行過程中，受到大氣、海水的腐蝕，鍍層上容易產生“鎘脆”，甚至引起“空難”。 具體因素也在下面給出。

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真空鍍膜機鍍制薄膜不均勻的解決方法

制的薄膜的均勻性都會受到某種因素影響。真空狀態需要抽氣系統來控制的，每個抽氣口都要同時開動并力度一致，這樣就可以控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內的壓強就不能均勻了，壓強對離子的運動是存在一定的影響的。厚度均勻性主要取決于：1、基片材料與靶材的晶格匹配程度2、基片表面溫度3、蒸發功率，速率4。另外抽氣的時間也要控制，太短會造成真空度不夠，但太長又浪費資源，不過有真空計的存在，要控制好還是不成問題的。

多功能真空鍍膜機

真空鍍膜機工作時，需要先抽真空，使真空室處于真空狀態，再進行鍍膜；鍍膜完成后，需要向真空室充氣?，F有技術中，真空鍍膜機的充氣管道直接與外界連通，容易把外界空氣中的灰塵帶入真空室，導致鏡片上吸附灰塵，造成產品不良真空蒸渡金屬薄膜是在高真空條件下，以電阻、高頻或電子加熱使金屬熔融氣化，在薄膜基材的表面附著而形成復合薄膜，其中被鍍金屬材料用的1多的是鋁，在塑料薄膜或紙張表面鍍上一層極薄的金屬鋁即成為鍍鋁薄或鍍鋁紙，在鍍鋁薄膜生產過程中對于真空條件是有嚴格限定的，真空度過高或過低都會影響鍍膜的性能，目前，工廠里使用的鍍膜機對于真空度的控制并不是很穩定，導致生產過程中產品的性能不夠穩定，因此，解決生產過程中鍍膜機里的真空度不易控制的問題尤為重要，而且內部鍍膜物件的溫度高，需要及時降溫，提高工作效率。做好這一點可少走好多彎路，其次是要善于分析現象，不能盲目的拆卸。