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              發布時間:2021-06-10 09:12  

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              光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。

              Parylene C

              是一種很好的介電材料,具有特別很是低的介質損耗、是系列中第二個具有商業價值的成員。


              Parylene HT(SCS)是系列中的第三個成員.具有更低的介電常數(即透波性能好)。它由雷同的單體系方式成,只是將其中兩個芳香烴氫原好的熱穩固性,長期可在350攝氏度使用,短期可子被氯原子庖代。




              真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發并凝結于鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。

              鍍膜技術都需要一個特定的真空環境,以保證制膜材料在加熱蒸發或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動,不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾,并消除大氣中雜質的不良影響。薄膜和基體選材廣泛,薄膜厚度可進行控制,以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。電路板鍍膜加工價格


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