離子氮化電話 湖北豐熱科技有限公司

湖北豐熱科技有限公司（原武漢離子熱處理研究所），專業制造輝光離子滲氮爐的高新技術企業；是集研發、生產、銷售安裝輝光離子滲氮爐，并為用戶提供成套的離子滲氮工藝技術服務。

工件放人爐內作為陰極，爐體作為陽極，再通人少量氨、氮或氮亞混合氣體，然后在兩極間施加一定電壓使氮電離，氮電離后即以髙速沖擊工件，離子的動能轉化為熱能將工件加熱至滲氮溫度。

離子滲氮是在真空室內進行的，工件接高壓直流電源的負極，真空鐘單接正極。將真空室的真空度抽到66.67Pa后，充人少量氮氣或氫氣、氮氣的混合氣體。當電壓調整到400~800V時，氮即電離分解成氮離子、氫離子和電子，并在工件表面產生輝光放電現象。正離子受電場作用加速轟擊工件表面，使工件升溫到滲氮溫度。電容耦合穿過絕緣材料或空間，電極就不再限于導電材料，可以濺射任何材料，因此射頻輝光放電廣泛用于絕緣或介質材料的濺射沉積鍍膜。氮離子在鋼件表面獲得電子，還原成氮原子而滲人鋼件表面并向內部擴散，形成滲氮層。

雙極性脈沖中頻靶電源一般帶孿生靶或雙靶運行。兩個靶的工作電壓極性相反同時又不斷互換極性，電壓極性為負時的磁控靶發生濺射，極性為正時的那個磁控靶不產生濺射。??由于陰陽極間電場正負極性來回變化，使電子路徑延長，與工作氣體碰撞次數增加，故單個磁控靶承載同樣功率(其它真空環境條件相同)時，選用雙極脈沖中頻靶電源比用純直流靶電源和脈沖直流中頻靶電源時，工作氣體的離化幾率和靶材的沉積速率均要高一些。根據10ns暴光的ICCD拍攝的放電圖像，Radu小組發現，在大氣壓惰性氣體He、Ne、Ar、Krypton的DBD間隙中，可以實現輝光放電。??磁控靶陰極電壓極性為負時，其單脈沖氣體放電應與直流氣體放電伏-安特性曲線異常輝光放電段及之前段的變化規律(趨勢)相符。??

磁控靶射頻放電的陰極是電容耦合電極，陽極接地;射頻電壓可以穿過任何種類的阻抗，所以電極就不再要求是導體；電容耦合穿過絕緣材料或空間，電極就不再限于導電材料，可以濺射任何材料，因此射頻輝光放電廣泛用于絕緣或介質材料的濺射沉積鍍膜。