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離子真空鍍膜機鍍膜應用范圍介紹

近很多客戶關于離子真空鍍膜機相關知識，問的問題各不相同，但是從這些問題里面能發現一個問題，客戶對離子鍍膜機相關知識了解甚少，只是停留在基礎表面，因此在和我們溝通的過程中，會出現溝通不是很順利，因為我們需要詳細的介紹很多專業性的問題。今天至成真空小編趁著這個機會，為大家詳細介紹一下離子真空鍍膜機鍍膜應用范圍，這樣大家以后也知道離子真空鍍膜機后期能運用到哪些行業，及離子鍍膜機能鍍什么產品。

1、離子真空鍍膜機鍍膜的應用范圍：半導體集成電路、光導纖維、太陽能電池、太陽能熱水器、太陽灶、光盤、磁盤、敏感元件、平板顯示器、選擇吸收玻璃、智能窗玻璃、人體植入部件等功能薄膜；

2、離子鍍膜技術應用范圍：工模具超硬涂層、航天軸承、機械零件；汽輪機葉片的耐蝕涂層；裝飾件、手機配件。

3、離子鍍薄膜的膜層結構：單源單層：氮化鈦涂層TiN、TiC、ZrN、CrN、AlN等。硬度約1800—2600Hv；多元單層：TiCN、TiAlN等。硬度2200—2800Hv；復合涂層：TiN/TiCN、TiN/TiCN/TiN、TiN/ZrN、TiN/CrN、TiN/AlN、TiN/C3N4、TiN/C3N4/DLC等。硬度3500—4500Hv；

4、納米結構涂層；多層膜中的每一層厚度為nm,也稱之為“調制周期”。各層可以是化合物/化合物，也可以是金屬非晶/納米金屬化合物，如：nc-TiN/a-Si3N4、Ti-Al-N、Ti-B-N等。調制周期6.8—30nm，硬度可達4700—10000Hv（47—100GPa）。要求鍍膜機的配置能夠滿足沉積薄膜的厚度為0.2—5μm的納米多層膜。

不同類型鍍膜機的適用范圍是怎樣的呢？

磁控濺射鍍膜設備：應用于信息存儲領域，如磁信息存儲、磁光信息存儲等。磁控濺射鍍膜機：應用于防護涂層，如飛機發動機的葉片、汽車鋼板、散熱片等。磁控濺射鍍Al膜生產線：應用于太陽能利用領域，如太陽能集熱管、太陽能電池等。光學鍍膜設備：應用于光學薄膜領域，如增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等。

AZO透明導電膜磁控濺射鍍膜生產線：應用于信息顯示領域，如液晶屏、等離子屏等。觸摸屏連續式鍍膜生產線：應用于觸摸屏領域，如手機、電腦、MP4等數碼產品屏幕等。磁控中頻多弧離子鍍膜設備：應用于硬質涂層，如切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。PECVD磁控生產線：應用于集成電路制造，如薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。蒸發式真空鍍膜設備：應用于在裝飾飾品上，如手機殼、表殼、眼鏡架、五金、小飾品等鍍膜。低輻射玻璃鍍膜生產線：應用于建筑玻璃方面，如陽光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等?？狗瓷鋵щ娔みB續磁控濺射生產線：應用于電子產品領域，如液晶顯示器、液晶電視、MP4、車載顯示、手機顯示、數碼相機和掌聲電腦等。

真空PVD鍍膜涂層工藝冷卻如何進行？

1.高閥關閉，真空計關閉，真空室與泵組隔離；

2.當操作人員按下N2vent按鈕，預先接好的氮氣會通過N2充氣閥充入真空室，當真空室內的壓力達到壓力開關預設的壓力時，N2充氣閥關閉。

3.真空室內充入了大量N2，真空度很低，更加有利于熱傳導，所以降溫速度比不充冷卻N2時快很多，縮短冷卻時間，提高生產效率，實際冷卻時間可由原來的90分鐘縮短為60分鐘。

4.由于氦氣的熱傳導率更高，所以充入冷卻氦氣比氮氣降溫速度更快，但是成本也更高。

5.國外設備快速冷卻程序，通過冷卻氣體的循環冷卻，能縮短冷卻時間50%。

為什么要進行壓升率測試？

真空環境條件是影響終涂層質量重要的因素。鍍膜前，必須進行壓升率測試，以保證真空環境條件滿足鍍膜標準。

怎樣進行壓升率測試？

在我們的自動鍍膜工藝中，壓升率測試是自動進行。當真空室內真空度達到工藝設定的本底真空后，進入壓升率測試步驟。

系統會自動關閉高閥，此時真空室與泵組隔離，真空室內壓力會升高。在一定時間內（一般1分鐘），如果壓力不超過設定的報警值，系統會自動進行下一步程序，進入鍍膜步驟。如果壓力超過設定的報警值，系統會有報警提示，此時，操作人員應按照操作流程，再次進行抽真空和加熱烘烤，然后重復進行壓升率測試，直至壓升率滿足鍍膜條件。