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發布時間：2020-12-21 14:49
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光刻膠
北京賽米萊德貿易有限公司供應美國Futurrex新型lift-off光刻膠NR9-3000PY，此款負膠的設計適用于比較寬的波長范圍和i線（366納米）曝光工具。當顯影后NR9-3000PY顯示出負的側壁角度，是lift-off工藝中比較簡易的光刻膠。利用感光與未感光光刻膠對堿性溶劑的不同溶解度，就可以進行掩膜圖形的轉移。和其他膠相比NR9i-3000PY有下面的優勢： 
NR9-3000PYNR73G 6000P光刻膠廠家
五、曝光
在這一步中，將使用特定波長的光對覆蓋襯底的光刻膠進行選擇性地照射。光刻膠中的感光劑會發生光化學反應，從而使正光刻膠被照射區域（感光區域）、負光刻膠未被照射的區域（非感光區）化學成分發生變化。這些化學成分發生變化的區域，在下一步的能夠溶解于特定的顯影液中。光刻膠基于應用領域不同一般可以分為半導體集成電路（IC）光刻膠、PCB光刻膠以及LCD光刻膠三個大類。
在接受光照后，正性光刻膠中的感光劑DQ會發生光化學反應，變為乙烯酮，并進一步水解為茚并羧酸（Indene-Carboxylic-Acid, CA），羧酸在堿性溶劑中的溶解度比未感光部分的光刻膠高出約100倍，產生的羧酸同時還會促進酚醛樹脂的溶解。利用感光與未感光光刻膠對堿性溶劑的不同溶解度，就可以進行掩膜圖形的轉移。三、光刻膠涂覆（PhotoresistCoating）光刻膠涂覆通常的步驟是在涂光刻膠之前，先在900-1100度濕氧化。
曝光方法：
a、接觸式曝光（Contact Printing）掩膜板直接與光刻膠層接觸。
b、接近式曝光（Proximity Printing）掩膜板與光刻膠層的略微分開，大約為10～50μm。
c、投影式曝光（Projection Printing）。在掩膜板與光刻膠之間使用透鏡聚集光實現曝光。
d、步進式曝光(Stepper)
NR77-15000PYNR73G 6000P光刻膠廠家NR73G 6000P光刻膠廠家
光刻膠穩定性
化學穩定性：在正常儲存和操作條件下，在密閉容器中室溫穩定。
避免的條件: 火源、濕氣、過熱的環境。
不相容的其他材料: 強氧化劑。
光刻膠毒理資料
淡黃色液體，氣味微弱。引起皮膚、眼睛、粘膜和呼吸道的刺激。可以通過皮膚吸收而引起全身性的癥狀。液體是可燃的。
毒性數據
皮膚：可以通過皮膚吸收而引起全身性的癥狀，類似于吸入。長時間或重復接觸可引起輕度至中度的刺激或皮炎。
眼睛：引起眼睛發炎。
吸入：吸入時可能有害。引起呼吸道刺激。蒸氣可能導致困倦和頭暈。
攝食：吞食有害。
延遲效應：肝和損害，以及動物實驗中有報道血液和GU髓有影響。
NR9-3000PY
11．請教~有沒有同時可以滿足RIE
process 和Lift-off
process的光阻，謝謝！
A 我們推薦使用Futurrex
NR1-300PY來滿足以上工藝的需求。
12．Futurre光刻膠里，有比較容易去除的負光阻嗎？
A NR9-系列很容易去除，可以滿足去膠需要。
13．我們目前用干膜做窄板，解析度不夠，希望找到好的替代光阻？
A NR9-8000因為有很高的AR比例，適合取代，在凸塊的應用上也有很大的好處。
14．傳統的Color
filter 制程，每個顏色的烘烤時間要2-3個小時，有沒有更快的方法制作Coior
filter?
A 用于Silylation制程------烘烤時間只需要2分鐘，同時光阻不需要Reflow, 顏色也不會老化改變，只需要在Filter上面加熱溶解PR1-2000S光阻，Microlenses就能形成！
15．請問有專門為平坦化提供材料的公司嗎？
A 美國Futurrex公司，專門生產應用化學品的，可以為平坦化的材料提供PC3-6000和PC4-1000都是為平坦化用途設計，臺灣企業用的比較多。
16．我需要一種可用于鋼板印刷的方式來涂布PROTECTIVE
COATING，那種適合？？
A 推薦美國Futurrex，PC4-10000。
17．臘是用來固定芯片的，但很難清洗干凈，哪里有可以替代的產品介紹下，謝謝？
A 我們公司是使用Futurrex
PC3-6000,可以替代的，而且去除比較容易，你可以試用下。
18．請問有沒有100微米厚襯底為鍍鎳硅并可用與MEMS應用的光刻膠嗎？
A NR4-8000P可以做到140微米的厚度，并在鍍鎳的襯底上不會出現難去膠的問題，如果是其他非鍍鎳襯底NR9-8000P是適合的選擇。
19．誰有用在光波導圖案的光刻膠？是否可以形成角度為30度的側壁？
A 你必須實現通過逐步透光來實現掩膜圖案棱的印刷，NR4-8000P是專門為光波導圖案應用進行設計的產品。
