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微弧氧化的發展方向

       在工業應用的范圍內，微弧氧化氧化工藝在下面幾個方向的發展是值得關注的：

       ①標準電解質的商業化及各種型號與系列電源的深化，并且通過復配電解質而擴展閥金屬的范圍，從而使微弧氧化的應用范圍擴大；

      ②通過神經網絡及相應的質量控制模型對微弧氧化工藝進行優化，工藝的改進（比如鼓入氣泡以及超聲波震動）；

      ③ 微弧氧化與其它技術的復合應用。微弧氧化電源

微弧氧化工藝的整流電源特點：

操作方式:本控遠控操作模式可選擇;

輸出控制方式:直流、單極脈沖或雙極脈沖輸出控制模式可選擇

恒流恒壓、恒功率三種控制模式可選擇

軟啟動時間:軟啟動工作時間可在0-2005范圍內整定

整流方式:IGBT逆變軟開關整流,PWM脈沖步調制IGBT斬波

脈沖步調頻率范圍:1000-8000Hz;

人機操作界面:PLC彩色觸摸屏

主控制器：微弧氧化電源DSP微機數字觸發控制,PWM脈寬調節控制,脈沖移相分辨率≤1μ。

       微弧氧化應用

      微弧氧化技術工藝處理能力強，主要可用于對耐磨、耐蝕、耐熱沖擊、高絕緣等性能有特殊要求的鋁基零部件的表面強化處理；還可采用不同的電解液對同一工件進行多次微弧氧化處理，以獲取具有多層不同性質的陶瓷氧化膜層。微弧氧化工藝比陽極氧化簡單，氧化膜的綜合性能比陽極氧化膜高的多，是一項有廣闊前景的新技術。還可用于常規陽極氧化不能處理的特殊鋁基合金材料的表面強化處理。微弧氧化膜、微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化技術、微弧氧化工藝