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發布時間：2021-01-14 22:42
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鍍膜前的準備工作
①清潔真空鍍膜室。用吸塵器將真空鍍膜室清潔一遍。當經過多次鍍膜時，真空鍍膜室的內襯板還需作定期清洗，一般是半個月清洗一次。
②檢查電弧蒸發源。工作前，要確保電弧蒸發源發源安裝正確，絕緣良好，引弧針控制靈活,程合適，恰好能觸及陰極表面。
③檢查工件架的絕緣情況。工件架與地之間的絕緣必須須良好，負偏壓電源與工件架的接觸點點必須接觸良好。
以上幾項工作確保沒有問題后，才可以關閉真空鍍膜室的門，進行抽氣和鍍膜。
真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要，直接影響到電鍍的產品品質。Parylene又是一種透氧、透水汽率非常低的高分子薄膜材料，Parylene涂敷稀土磁性材料的技術和產品，目前國外小型釹鐵硼稀土磁性材料都已采用Parylene進行防護。加工件進入鍍膜室前一定要做到認真的鍍前清潔處理，表面污染來自工件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、 機油、拋光膏、油脂、汗漬等物，為了避免加工過程中造成的不良，真空鍍加工廠家基本上可采用去油或化學清冼方法將其去掉。
塑料在真空鍍膜前為何要涂層？
大多數塑料在真空鍍膜之前，一般先要涂覆底涂層，主要原因是有以下幾點：
一：塑料在成型后，表面肯定有的粗糙度，比如有0.5um的粗糙度。
真空鍍膜層很薄，很難掩蓋基材表面的凹凸不平，如果采用底涂技術，光固化涂層厚度約10~20um，涂層自身粗糙度在0.1um以下，因此可大大提高鍍層的光亮度。
化學氣相沉積技術是把含有構成薄膜元素的單質氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學反應，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學氣相沉積等。
真空鍍膜技術與濕式鍍膜技術相比較，具有下列優點：(1)薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜，環境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。而高真空離子鍍它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。(3)薄膜與基體結合強度好，薄膜牢固。(4)干式鍍膜既不產生廢液，也無環境污染。
