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發(fā)布時(shí)間:2021-09-07 05:07  
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鋼研納克SparkCCD7000
高分辨率 CCD 檢測(cè)器
像素?cái)?shù):3648 46 全行業(yè)較高
像素尺寸:8μm 全行業(yè)較小
精薄鍍膜,紫外波段檢出限更低,可做低含量 N
萬級(jí)超凈環(huán)境下打造較優(yōu)光學(xué)系統(tǒng)
帕邢 - 龍格結(jié)構(gòu)羅蘭光學(xué)系統(tǒng),無像差,分辨率均勻
高發(fā)光全息光柵,光柵焦距 500mm, 刻線為 2700 條 /mm,全行業(yè)較高
線分辨率 0.7407nm/mm
像素分辨率 0.005926nm
譜線范圍:130-800nm(可分析 N、Li、 Na、K 等元素)
智能控制系統(tǒng),再啟動(dòng)耗時(shí)行業(yè)較低
潮汐式?jīng)_洗方式,冷機(jī)(關(guān)機(jī) 12 小時(shí))啟動(dòng)只需 30min,熱機(jī)啟動(dòng)時(shí)間 5min
智能判斷分析間隔時(shí)間,合理補(bǔ)充氣,降低氣消耗
60ml/min 超低待機(jī)流量,一瓶氣 24 小時(shí)待機(jī) 70 天
分片式曝光,痕量元素識(shí)別強(qiáng)度大幅提高,檢出限更低
一次激發(fā),分片曝光,同時(shí)采集,同時(shí)回?cái)?shù)
獨(dú)立控制不同 CCD 的積分曝光時(shí)間
提升痕量元素的強(qiáng)度,降低儀器的檢出限
隨波段調(diào)節(jié)積分時(shí)間,提升儀器的 穩(wěn)定性
由中國72家鑄造協(xié)會(huì)/學(xué)會(huì)聯(lián)手打造的第十六屆中國國際鑄造博覽會(huì)The
16th China International Foundry Expo (metal China)于2018年5月16-19日在北京順義新國展博覽中心成功舉辦。展商和觀眾來自中國、德國、美國、巴西、俄羅斯、日本、印度、西班牙等80多個(gè)國際和地區(qū),展商數(shù)量超過1300家,觀眾超10萬人次。本次展會(huì)得到同行業(yè)、學(xué)者及技術(shù)人員的高度評(píng)價(jià)。
鋼研納克在本博覽會(huì)上集中展示了SparkCCD
6000型全譜火花直讀光譜儀、CSONH氣體分析儀、Plasma 3000型雙向觀測(cè)全譜電感耦合等離子體光譜儀、力學(xué)試驗(yàn)機(jī)等分析儀器,吸引了國內(nèi)外眾多參展人員,受到、學(xué)者的一致好評(píng)。
直讀光譜儀器的誤差來源有哪些?
1)系統(tǒng)誤差也叫可測(cè)誤差,一般包括儀器的本身波動(dòng);樣品的給定值和實(shí)際值存在一定的偏差(標(biāo)準(zhǔn)樣品的元素定值方法可能和實(shí)際檢測(cè)方法不一致,這樣檢測(cè)結(jié)果會(huì)有方法上的差異;同一種方法的檢測(cè)結(jié)果也存在一定的波動(dòng));待測(cè)樣品和系列標(biāo)樣之間存在成分的差異,可能導(dǎo)致在蒸發(fā)、解離過程中的誤差,如背景強(qiáng)度的差別和基體蒸發(fā)的差異等。
2)偶然誤差是一種無規(guī)律性的誤差,如試樣不均勻;檢測(cè)時(shí)周圍的溫濕度、電源電壓等的變化;樣品本身的成分差異等。
3)過失誤差是指分析人員工作中的操作失誤所得到的結(jié)果,可以避免。如制樣不準(zhǔn)確,樣品前處理不符合要求,控樣和待測(cè)試樣存在制樣偏差,選擇了錯(cuò)誤的分析程序等。