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CF50高溫束源爐

 CF50高溫束源爐是MBE專用的可加熱至1600℃-1900℃。采用外水冷套結構,加熱，溫度測量控制重復性好，并且可以調節。鉭燈絲的優化設計確保了加熱穩定性，即使在極限溫度下也可以具有很長的使用壽命。用于低蒸汽壓的元素和化合物材料薄膜沉積，例如Fe，Cr，Ni，Co，Au，Ge等材料，以及表面科學分析和磁性或氧化物薄膜沉積。性能特點一、電極（又叫電纜頭）是無觸點、無焊點、無焊縫，用整根銅棒在數控車床、銑床上加工而成，美觀、耐用、電阻小。

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高溫束源爐介紹

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束源爐是一種蒸發鍍膜裝置是在高真空條件下，通過加熱材料的方法，使坩堝中被蒸發物在襯底上沉積各種化合物、混合物單層或多層膜，可用于鍍半導體、金屬膜，氧化物、納米級單層及多層功能膜的連續沉積。

加熱，溫度測量控制重復性好，并且可以準確調節。鉭燈絲的優化設計確保了加熱穩定性，即使在極限溫度下也可以具有很長的使用壽命。 

靶材鍍膜工藝介紹

用于建筑玻璃的鍍膜玻璃-般都鍍薄膜。 我們把厚度低于1um的膜層叫薄膜，厚度高于1um的膜叫厚膜鍍膜工藝是用不同的材料在基片表面形成新表面的方法。鍍膜的方法很多,真空蒸發、真空濺射、化學還原、溶膠凝膠法等。它要求膜層要有非常強的附著力,附著力不強的叫覆蓋。要獲得強附著力,就必須將玻璃表面清潔干凈。現有用于電子束蒸發加熱的樣品臺結構功能單一，樣品在弧形加熱臺中不能旋轉加熱，受熱不均勻，一定程度上影響加熱效率。

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