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發(fā)布時間：2021-10-18 05:54
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光刻膠國內(nèi)研發(fā)現(xiàn)狀
“造成與國際水平差距的原因很多。過去由于我國在開始規(guī)劃發(fā)展集成電路產(chǎn)業(yè)上，布局不合理、不完整，特別是生產(chǎn)加工環(huán)節(jié)的投資，而忽視了重要的基礎(chǔ)材料、裝備與應(yīng)用研究。目前，整個產(chǎn)業(yè)是中間加工環(huán)節(jié)強，前后兩端弱，核心技術(shù)至今被TOK、JSR、住友化學(xué)、信越化學(xué)等日本企業(yè)所壟斷。三、光刻膠涂覆（PhotoresistCoating）光刻膠涂覆通常的步驟是在涂光刻膠之前，先在900-1100度濕氧化。
光刻膠的主要技術(shù)指標(biāo)有解析度、顯影時間、異物數(shù)量、附著力、阻抗等。每一項技術(shù)指標(biāo)都很重要，必須全部指標(biāo)達(dá)到才能使用。因此，國外企業(yè)在配方、生產(chǎn)工藝技術(shù)等方面，對中國長期保密。中國的研發(fā)技術(shù)有待進一步發(fā)展
PC6-16000
NR9-3000PY 相對于其他光刻膠具有如下優(yōu)勢：
- 優(yōu)異的分辨率性能
- 快速地顯影
- 可以通過調(diào)節(jié)曝光能量很容易地調(diào)節(jié)倒梯形側(cè)壁的角度
- 耐受溫度100℃
- 室溫儲存保質(zhì)期長達(dá)3 年
NR9-1000PY 0.7μm - 2.1μm
NR9-1500PY 1.1μm - 3.1μm
NR9-3000PY 2.1μm - 6.3μm
NR9-6000PY 5.0μm -
12.2μm
Resist Thickness
NR71-1000PY 0.7μm - 2.1μm
NR71-1500PY 1.1μm - 3.1μm
NR71-3000PY 2.1μm - 6.3μm
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?Futurrex
提供先進化學(xué)技術(shù)的多樣化解決方案
成立于1985年,總部設(shè)在美國新澤西州，富蘭克林市,高速成長并超過20年連續(xù)盈利的跨國公司
公司業(yè)務(wù)覆蓋范圍包括北美，亞太以及歐洲
基于多樣化的技術(shù)
應(yīng)用領(lǐng)域：微電子、光電子、LED、太陽能光伏、微機電系統(tǒng)、生物芯片、微流體、平面印刷
解決方案：的光刻膠、摻雜涂層、平坦化涂層、旋制氧化硅(spin-onglase)。阻擋層(Barrior Layere)、濕法制程
客戶：從財富100強到以風(fēng)險投資為背景的設(shè)備研發(fā)及制造公司
使命
目標(biāo)
提供特殊化學(xué)品和全新工藝來增加客戶的產(chǎn)能
策略
提供獨特的產(chǎn)品來優(yōu)化生產(chǎn)制程，以提高設(shè)備能效
領(lǐng)的技術(shù)提升生產(chǎn)過程中的整體性價比
工藝步驟的減少降低了成本和產(chǎn)生瑕疵的可能
增加客戶的產(chǎn)能和生產(chǎn)的效率
工藝減化
非同尋常的顯微構(gòu)造、金屬及介電層上的圖形轉(zhuǎn)換、光刻、平坦化、摻雜、蝕刻、邦定
在生產(chǎn)過程中，不含有害溶劑
支持所有客戶的需要，與客戶共創(chuàng)成功
