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              發布時間:2021-09-14 04:08  

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              濺射鍍膜技術是用離子轟擊靶材表面,濺射產生的原子沉積在基體表面形成PVD涂層。通常是利用氣體放電產生氣體電離,其正離子在電場作用下高速轟擊陰極靶體,擊出陰極靶體原子或分子,飛向被鍍基體表面沉積成PVD涂層。磁控濺射鍍膜技術是在濺射鍍膜基礎上發展而來,與濺射鍍膜相比,沉積速率更快,涂層致密且與基體附著性好。


              真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內,采用一定方法加熱待鍍材料,使之蒸發或升華,并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

              在真空條件下成膜有很多優點:可減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞,減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應(如氧化等),以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量,從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。





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